2025-11-25T00:52:16.258141

The EKOR-stratification on the Siegel modular variety with parahoric level structure

Hoff
We study the arithmetic geometry of the reduction modulo $p$ of the Siegel modular variety with parahoric level structure. We realize the EKOR-stratification on this variety as the fibers of a smooth morphism into an algebraic stack parametrizing homogeneously polarized chains of certain truncated displays.
academic

The EKOR-stratification on the Siegel modular variety with parahoric level structure

基本信息

  • 论文ID: 2206.07470
  • 标题: The EKOR-stratification on the Siegel modular variety with parahoric level structure
  • 作者: Manuel Hoff (Universität Bielefeld)
  • 分类: math.AG (代数几何)
  • 发表期刊: Épijournal de Géométrie Algébrique, Volume 9 (2025), Article No. 5
  • 论文链接: https://arxiv.org/abs/2206.07470

摘要

本文研究了具有parahoric水平结构的Siegel模簇在模p约化下的算术几何。作者将该簇上的EKOR分层实现为光滑态射的纤维,该态射指向一个参数化某些截断显示的齐次极化链的代数栈。

研究背景与动机

问题背景

  1. Siegel模簇与特殊纤维: Siegel模簇Ag,J,NA_{g,J,N}是Shimura簇在parahoric坏约化位置的积分模型的典型例子。虽然其一般纤维是光滑的,但特殊纤维通常是奇异的,这与特征p中阿贝尔簇的p-挠子不是étale的事实相关。
  2. EKOR分层: He和Rapoport考虑了映射υ:Ag,J,N(Fˉp)K^σ\(K^1\X)υ: A_{g,J,N}(\bar{\mathbb{F}}_p) → \hat{K}^σ\backslash(\hat{K}^1\backslash X),其纤维称为Ekedahl-Kottwitz-Oort-Rapoport (EKOR)分层。在超特殊情形J=2gZJ = 2g\mathbb{Z}时,这也被称为Ekedahl-Oort (EO)分层。
  3. 现有工作的局限性:
    • Viehmann和Wedhorn在超特殊情形下实现了EO分层作为光滑态射的纤维
    • Shen, Yu和Zhang在parahoric情形下只能在每个KR层上构造光滑态射
    • 缺乏对一般parahoric情形的完整处理

研究动机

作者提出核心问题:对于一般的J,是否可能将映射υ或甚至Υ实现为从Ag,J,NA_{g,J,N}到某个自然定义的代数栈的光滑态射?这样的光滑态射将提供EKOR分层光滑性的新证明,并为进一步研究Ag,J,NA_{g,J,N}的几何提供工具。

核心贡献

  1. 引入截断显示理论: 定义了(m,n)(m,n)-截断显示的概念,这是受限局部shtuka的非完美版本,为研究parahoric情形提供了合适的框架。
  2. 构造齐次极化链栈: 建立了齐次极化显示链的模栈HPolChDispg,J(m,n)\text{HPolChDisp}^{(m,n)}_{g,J},并给出了其商栈描述。
  3. 实现光滑态射: 证明了自然态射Ag,J,NHPolChDispg,J(m,n)A^∧_{g,J,N} → \text{HPolChDisp}^{(m,n)}_{g,J}是光滑的,从而实现了EKOR分层作为光滑态射的纤维。
  4. 理论框架完善: 发展了显示的对偶和扭转理论,以及相应的范畴论框架。

方法详解

任务定义

研究目标是将EKOR分层υ:Ag,J,N(Fˉp)K^σ\(K^1\X)υ: A_{g,J,N}(\bar{\mathbb{F}}_p) → \hat{K}^σ\backslash(\hat{K}^1\backslash X)实现为代数栈之间的光滑态射,其中输入是具有parahoric水平结构的Siegel模簇,输出是参数化截断显示链的代数栈。

核心数学对象

1. 显示理论

定义1.1 (显示): 类型(h,d)(h,d)的显示是三元组(M,M1,Ψ)(M, M_1, Ψ),其中:

  • MM是秩为hh的有限投射W(R)W(R)-模
  • M1MM_1 ⊆ M是包含IRMI_R MW(R)W(R)-子模,使得M1/IRMM/IRMM_1/I_R M ⊆ M/I_R M是秩为dd的直和项
  • Ψ:M~1MΨ: \tilde{M}_1 → MW(R)W(R)-模的同构(分裂Frobenius)

2. 截断显示

对于正整数mn+1m ≥ n+1(m,n)(m,n)-截断显示是使用截断Witt向量的显示版本。当RR是特征p时,允许nn取特殊值1-rdt1\text{-rdt}

3. 齐次极化链

定义1.3: 类型(g,J)(g,J)的齐次极化显示链是包含以下数据的元组:

  • 显示链((Mi,Mi,1,Ψi)i,(ρi,j)i,j)((M_i, M_{i,1}, Ψ_i)_i, (ρ_{i,j})_{i,j})
  • 周期性同构θi:(Mi,Mi,1,Ψi)(Mi+2g,Mi+2g,1,Ψi+2g)θ_i: (M_i, M_{i,1}, Ψ_i) → (M_{i+2g}, M_{i+2g,1}, Ψ_{i+2g})
  • 可逆模(I,ι)(I, ι)
  • 反对称极化λi:(Mi,Mi,1,Ψi)(I,ι)(Mi,Mi,1,Ψi)λ_i: (M_i, M_{i,1}, Ψ_i) → (I, ι) ⊗ (M_{-i}, M_{-i,1}, Ψ_{-i})^∨

技术创新点

1. 商栈实现

命题1.4: 存在等价关系 HPolChDispg,J(m,n)[(L(m)G)Δ\Mloc,(n)]\text{HPolChDisp}^{(m,n)}_{g,J} \simeq [(L^{(m)}G)_Δ \backslash M^{\text{loc},(n)}] 其中L(m)GL^{(m)}Gmm-截断Witt向量正环群,Mloc,(n)M^{\text{loc},(n)}是局部模型的某个L(m)GL^{(m)}G-扭子。

2. 与p-可除群的联系

定理1.2: 存在自然函子 D:{R上高度h维数dp-可除群}op{R上类型(h,d)的显示}D: \{R\text{上高度}h\text{维数}d\text{的}p\text{-可除群}\}^{\text{op}} → \{R\text{上类型}(h,d)\text{的显示}\} 该函子限制为形式p-可除群与F-幂零显示之间的等价。

实验设置

数学验证框架

本文是纯数学理论研究,主要通过严格的数学证明来验证结果,包括:

  1. 范畴等价性验证: 通过构造显式的函子并证明其为等价来验证理论框架的正确性
  2. 光滑性证明: 使用Serre-Tate定理和形式化方法证明关键态射的光滑性
  3. 商栈描述: 通过局部模型理论验证商栈描述的正确性

技术工具

  • Witt向量理论
  • 显示理论(Zink)
  • 局部模型理论(Rapoport-Zink)
  • 代数栈理论
  • p-可除群理论

主要结果

核心定理

定理1.5 (主要结果): 对于每个整数元组(m,n)(m,n)n1-rdtn ≠ 1\text{-rdt},自然态射Ag,J,NHPolChDispg,J(m,n)A^∧_{g,J,N} → \text{HPolChDisp}^{(m,n)}_{g,J}是光滑的。类似地,对于每个m2m ≥ 2,态射(Ag,J,N)FpHPolChDispg,J(m,1-rdt)(A_{g,J,N})_{\mathbb{F}_p} → \text{HPolChDisp}^{(m,1\text{-rdt})}_{g,J}也是光滑的。

证明策略

  1. Serre-Tate定理应用: 利用Serre-Tate定理,态射在对应于阿贝尔簇极化链的点处的光滑性仅依赖于相关的p-可除群极化链
  2. 形式轨迹分析: 证明态射沿形式轨迹(即具有形式p-可除群的阿贝尔簇链的轨迹)是光滑的
  3. 特化论证: 证明Ag,J,N|A^∧_{g,J,N}|中有足够多的点特化到形式轨迹中

应用结果

  • EKOR分层的光滑性: 作为推论,EKOR分层是光滑的
  • 闭包关系: 提供了EKOR分层之间闭包关系的新证明
  • 几何工具: 为进一步研究Ag,J,NA_{g,J,N}的几何提供了新工具

相关工作

历史发展

  1. F-zip理论: Moonen和Wedhorn引入F-zip概念,Viehmann和Wedhorn在超特殊情形实现EO分层
  2. 群论zip: Pink, Wedhorn和Ziegler定义群论版本的F-zip
  3. parahoric推广: Shen, Yu和Zhang推广到parahoric情形,但只能在KR分层上构造光滑态射
  4. 局部shtuka: Xiao和Zhu考虑混合特征局部shtuka的完美模栈

本文贡献的独特性

  • 提供了parahoric情形下的完整处理
  • 引入截断显示理论作为关键技术工具
  • 实现了全局光滑态射,而非仅在每个KR分层上

结论与讨论

主要结论

  1. 成功将EKOR分层实现为光滑态射的纤维,解决了一般parahoric情形下的重要问题
  2. 发展了截断显示理论,为研究Shimura簇的特殊纤维提供了新的技术框架
  3. 建立了显示理论与模栈理论之间的深刻联系

局限性

  1. 技术复杂性: 理论框架相当技术性,需要深厚的代数几何背景
  2. 特定情形: 主要关注Siegel模簇,对更一般Shimura簇的推广需要进一步工作
  3. 计算复杂性: 实际计算EKOR分层仍然具有挑战性

未来方向

作者提出的自然下一步是将结果推广到更一般的parahoric水平Shimura簇,这需要:

  1. 对每个parahoric Zp\mathbb{Z}_p-群概型GG和minuscule几何共轭类μμ定义(G,μ)(G,μ)-显示栈
  2. 构造从相应Shimura簇的p-完备化到截断(G,μ)(G,μ)-显示栈的自然光滑态射

深度评价

优点

  1. 理论突破: 解决了该领域的一个重要开放问题,提供了parahoric情形下EKOR分层的完整几何实现
  2. 技术创新: 截断显示理论的引入为处理非超特殊情形提供了关键工具
  3. 证明严谨: 数学证明完整且严谨,特别是光滑性的证明策略巧妙
  4. 框架完整: 发展了完整的理论框架,包括对偶、扭转等范畴论结构

不足

  1. 技术门槛高: 理论高度技术性,需要多个数学分支的深入知识
  2. 应用范围: 目前主要限于Siegel模簇,推广到一般情形需要更多工作
  3. 计算方面: 虽然提供了理论框架,但实际计算仍然困难

影响力

  1. 学术价值: 为Shimura簇的算术几何研究提供了重要工具和新视角
  2. 理论贡献: 丰富了显示理论和模栈理论,建立了新的联系
  3. 后续研究: 为该领域的后续研究奠定了重要基础

适用场景

该方法适合应用于:

  1. Shimura簇特殊纤维的几何研究
  2. EKOR/EO分层的进一步分析
  3. p-可除群模空间的研究
  4. 算术几何中的模问题

参考文献

论文引用了该领域的重要文献,包括:

  • Rapoport-Zink关于周期空间的经典工作
  • Viehmann-Wedhorn关于F-zip和EO分层的研究
  • Shen-Yu-Zhang关于parahoric情形的部分结果
  • Zink关于显示理论的奠基性工作