We extend the algebraic K-stability theory to projective klt pairs with a big anticanonical class. While in general such a pair could behave pathologically, it is observed in this note that K-semistability condition will force them to have a klt anticanonical model, whose stability property is the same as the original pair.
- 论文ID: 2210.16631
- 标题: K-stability for varieties with a big anticanonical class
- 作者: Chenyang Xu (Princeton University)
- 分类: math.AG (代数几何), math.DG (微分几何)
- 发表期刊: Épijournal de Géométrie Algébrique, Special volume in honour of C. Voisin, Article No. 7 (2023)
- 论文链接: https://arxiv.org/abs/2210.16631
本文将代数K-稳定性理论扩展到具有大反典范类的射影klt对。虽然一般情况下这样的对可能表现出病理性质,但本文观察到K-半稳定性条件将强制它们具有klt反典范模型,其稳定性性质与原始对相同。
- K-稳定性理论的成功: 对于log Fano对的代数K-稳定性理论已取得巨大进展,该理论提供了研究Kähler-Einstein度量存在性的代数方法。
- 扩展需求: 最近的工作DZ22和DR22考虑了Kähler流形(X,ω)使得−KX是大的情况下的Kähler-Einstein问题,特别是DZ22证明了扭曲大Kähler-Einstein度量的超越Yau-Tian-Donaldson定理。
- 病理现象: 对于具有大反典范类−KX的射影簇X,可能存在病理例子,例如反典范环R(X,−KX)=⨁m∈NH0(X,−mKX)不一定是有限生成的。
本文旨在证明对于具有大反典范类的射影klt对,K-稳定性理论本质上可以归结为原始的(log) Fano情况,即K-稳定性条件将强制这些对具有log Fano型性质。
- 建立了K-半稳定性与log Fano型的联系: 证明了如果(X,Δ)是具有大−KX−Δ的klt射影对且δ(X,Δ)≥1,则存在有效Q-因子Γ使得(X,Δ+Γ)是log Fano对。
- 证明了有限生成性: 在K-半稳定性条件下,反典范环R(X,−r(KX+Δ))是有限生成的。
- 建立了稳定性的等价性: 证明了(X,Δ)与其反典范模型(Z,ΔZ)具有相同的K-稳定性性质。
- 统一了稳定性概念: 证明了对于这类对,uniform K-稳定性等价于K-稳定性。
研究具有大反典范类的射影klt对(X,Δ)的K-稳定性,其中−KX−Δ是大的但不一定是丰富的。
对于n维射影正规对(X,Δ)使得−KX−Δ大,对于出现在双有理模型μ:Y→X上的任何素因子E,S-不变量定义为:
SX,Δ(E):=vol(−KX−Δ)1∫0∞vol(−μ∗(KX+Δ)−tE)dt
如果(X,Δ)是klt的,定义:
δ(X,Δ):=infESX,Δ(E)AX,Δ(E)
其中E遍历(X,Δ)上的所有赋值,AX,Δ(E)是log差异。
定义常数a(X,Δ)为:
a(X,Δ)=sup{t∈R:∃丰富因子A使得A−t(KX+Δ)丰富且−KX−Δ−A伪有效}
- 直接情况: 当δ(X,Δ)>1时,通过基型因子的log典范阈值直接应用引理3.1。
- 扰动论证: 当δ(X,Δ)≤1但满足条件(3.2)时,使用丰富因子A进行扰动,构造适当的Q-补来获得log Fano性质。
利用公共解析Y,建立关系:
π∗(KZ+ΔZ)−μ∗(KX+Δ)=B≥0
证明对任何素因子E:
- AX,Δ(E)=AZ,ΔZ(E)+ordE(B)
- SX,Δ(E)=SZ,ΔZ(E)+ordE(B)
本文主要是理论工作,通过严格的数学证明来验证结果。
例3.8: 构造了一个具体的反例来说明病理现象:
- 设S是P2在九个非常一般点处的爆破
- −KS是nef但不是半丰富的
- 构造X=PS(E),其中E:=OS+OS(H)
- 证明−KX是大的但相应的代数不是有限生成的
- 直接计算验证δ(X)<53<1
设(X,Δ)满足假设3.3,即:
δ(X,Δ)>n+1+a0n+1
其中a0=a(X,Δ),则(X,Δ)是log Fano型的,特别地,任何Cartier因子E满足R(X,E):=⨁m∈NH0(X,mE)是有限生成的。
在定理3.4的条件下,反典范模型(Z,ΔZ)是log Fano对。
定理1.2: (X,Δ)是K-半稳定的(resp. K-稳定的,uniformly K-稳定的)当且仅当(Z,ΔZ)是K-半稳定的(resp. K-稳定的,uniformly K-稳定的)。
引理2.6: 如果A是X上的有效丰富Q-因子使得−KX−Δ−A伪有效,则SX,Δ(A)≥n+11。
- 经典理论: Fujita-Li准则Fuj19, Li17, BX19建立了使用赋值定义K-稳定性与原始测试配置定义的等价性。
- 大反典范类情况: DZ22中针对具有大反典范类的情况制定了当前定义。
- Ding稳定性: DR22发展了具有大−KX−Δ的射影klt对的Ding稳定性概念。
利用了BCH+10中的有限生成结果和最小模型程序的标准技术。
- K-半稳定性条件强制具有大反典范类的klt对具有log Fano型性质
- 这些对的K-稳定性问题可以归结到其反典范模型的相应问题
- 对于这类对,uniform K-稳定性等价于K-稳定性
本文的结果表明,尽管具有大反典范类的对可能表现出病理行为,但K-稳定性条件提供了足够的约束来保证良好的几何性质。
这些结果为在更一般设置下应用现有的双有理几何技术研究K-稳定性问题提供了理论基础。
- 理论深度: 将K-稳定性理论成功扩展到更一般的几何设置
- 技术创新: 巧妙地将病理情况归结为经典的log Fano情况
- 完整性: 提供了完整的理论框架,包括有限生成性和稳定性等价性
- 严谨性: 数学论证严格,逻辑清晰
- 参数a(X,Δ)的引入: 提供了量化"大"程度的有效工具
- 扰动技术: 在证明中使用的扰动论证技巧具有一般性价值
- 统一框架: 将不同的稳定性概念统一在同一框架下
- 条件限制: 主要结果需要较强的假设条件
- 具体计算: 对于具体例子,验证条件可能比较困难
- 应用范围: 主要是理论结果,实际应用还需进一步发展
本文为K-稳定性理论的发展做出了重要贡献,特别是为处理更一般的几何对象提供了理论基础,预期将对代数几何和复几何领域产生持续影响。
- BJ20 H. Blum and M. Jonsson, Thresholds, valuations, and K-stability
- DZ22 T. Darvas and K. Zhang, Twisted Kähler-Einstein metrics in big classes
- DR22 R. Dervan and R. Reboulet, Ding stability and Kähler-Einstein metrics on manifolds with big anticanonical class
- LXZ22 Y. Liu, C. Xu, and Z. Zhuang, Finite generation for valuations computing stability thresholds and applications to K-stability