Partielle Zustandsrückkopplung Reduzierter Ordnung Schaltende Prädiktive Modelle für Optische Lithographiesysteme der nächsten Generation

Grundinformationen

• Papier-ID: 2402.13928
• Titel: Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems
• Autoren: Raaja Ganapathy Subramanian (Technische Universität Eindhoven & ASML NV), Barry Moest (ASML NV), Bart Paarhuis (ASML NV)
• Klassifizierung: math.OC (Mathematische Optimierung und Regelung)
• Veröffentlichungszeitpunkt: Preprint eingereicht bei Control Engineering Practice, 15. Oktober 2025
• Papierlink: https://arxiv.org/abs/2402.13928

Zusammenfassung

In diesem Artikel wird ein Modell mit partieller Zustandsrückkopplung und reduzierter Ordnung mit adaptiver Schalterlogik vorgestellt, das die Roadmap der optischen Lithographietechnologie der nächsten Generation unterstützen soll. Die Methode adressiert den Kompromiss zwischen einer erhöhten Anzahl von Messungen zur Verbesserung der Registriergenauigkeit und den damit verbundenen Herausforderungen, einschließlich erhöhtem Messerauschen, verringertem Durchsatz und Registrierungs-/Platzierungsfehlern unter unsicheren Betriebsbedingungen. Durch die Minimierung von Chipplatzierungsfehlern und die Reduzierung unnötiger Messungen verbessert die Methode die Systemleistung und den Durchsatz. Die Lösung nutzt ein vereinfachtes Modell mit adaptiver Schalterlogik, um zeitvariable Unsicherheiten zu bewältigen, die durch schwankende Betriebsbedingungen verursacht werden. Die Methode wird auf einem hochmodernen Lithographiescanner implementiert, um die räumlich-zeitlichen Dynamiken der Maskentischheizung zu mindern, als repräsentative industrielle Anwendung. Die Maskentischheizung verschlechtert sich mit zunehmendem Durchsatz und führt zu räumlich-zeitlichen Verzerrungen, die die Chipplatzierungsgenauigkeit direkt beeinträchtigen. Die experimentellen Ergebnisse zeigen erhebliche Verbesserungen: Platzierungsfehler werden um das 2-3-fache reduziert, und der Durchsatz wird um 0,3 Sekunden pro Wafer erhöht.

Forschungshintergrund und Motivation

Problemhintergrund

1. Bedeutung der Lithographietechnologie: Lithographie ist die kritischste Technologie im Halbleiterfertigung und bestimmt die Herstellungsskala von Chipelementen, was die Produktionsqualität integrierter Schaltkreise direkt beeinflusst.
2. Technische Herausforderungen:
   • Minimale Merkmalsgröße von 3 nm bis 500 nm erfordert Subnanometer-Präzision
   • Widerspruch zwischen hohem Durchsatzanforderungen und hoher Präzisionsanforderung
   • Auswirkungen räumlich-zeitlicher Dynamiken auf die Systemleistung
3. Einschränkungen bestehender Methoden:
   • Simulationsannahmen stimmen nicht mit dem Verhalten des realen Systems überein
   • Empfindlichkeit gegenüber Unsicherheiten und externen Störungen
   • Schwierigkeit, die globale Schleifenstabilität im Echtzeitbetrieb zu gewährleisten
   • Kompromiss zwischen physikalischer Modellierungsgenauigkeit und Modellvereinfachung
   • Einschränkungen bei Modularität, Skalierbarkeit und Implementierungskosten

Forschungsmotivation

Dieser Artikel zielt darauf ab, die Lücke zwischen theoretischen Regelungskonzepten und der praktischen Implementierung von Lithographiesystemen zu schließen, indem eine Methode mit partieller Zustandsrückkopplung und reduzierter Ordnung mit schaltender prädiktiver Regelung vorgestellt wird, die gleichzeitig Durchsatz und Registrierleistung aufrechterhält.

Kernbeiträge

1. Reduzierte Modellgestaltung: Vorschlag zur Verwendung von reduzierter linearer zeitinvarianter Modelle, die aus nominalen großskaligen Systemdynamiken (Finite-Elemente-Modelle) abgeleitet werden, durch selektive Entkopplung kritischer räumlich-zeitlicher Dynamiken, um Recheneffizienz ohne Beeinträchtigung der Modellgenauigkeit zu gewährleisten.
2. Adaptiver Schaltmechanismus: Einführung eines Schalterlogik-Mechanismus, der sich an Unsicherheiten aufgrund physikalischer Effekte anpasst und die Robustheit erhöht.
3. Stabilitätsgarantie: Nachweis, dass die vorgeschlagene Regelungsstrategie globale einheitliche endgültige Beschränktheit asymptotische Stabilität (GUAS) gewährleistet, unterstützt durch das Kleingewinn-Theorem für nichtlineare Systeme.
4. Industrielle Validierung: Implementierung und Validierung auf hochmodernen Lithographiesystemen mit Fokus auf die Minderung räumlich-zeitlicher Verzerrungen durch Maskentischheizung.

Methodische Details

Aufgabendefinition

Eingaben:

• Systemzustand $x \in \mathbb{R}^n$ (vorhergesagte vollständige Maskentischverformung)
• Externe Eingabe $u_e \in \mathbb{R}^m$ (Wärmequellen)
• Spärliche Sensordaten $y \in \mathbb{R}^q$

Ausgaben:

• Ausgabe bezogen auf Platzierungsfehler $z \in \mathbb{R}^p$

Nebenbedingungen:

1. Vorhergesagte Versetzung bleibt begrenzt: $\|z\| \leq \varepsilon$ (Subnanometer-Niveau)
2. Reduzierung der Messzeit durch selektives Überspringen von Messungen bestimmter Markensätze

Modellarchitektur

Zustandsraum-Formulierung

Die Zustandsraum-Formulierung des Systems lautet:

$\hat{P} := \begin{cases} \dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e + B_f u_f \\ u_f = \Gamma(.)y \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$

wobei:

• $x_i$: Interne Verformungszustände
• $u_e$: Externes Heizprofil
• $u_f$: Rückkopplungssignal von Ausrichtungssensoren
• $\Gamma(.)$: Funktion, die spärliche Rückkopplungsmessungen in angemessen dichte Anordnung umwandelt
• $C_i$: Ausgabemapping von $x_i$ zu $u_i$

Vierschrittiges Entwurfsverfahren

Schritt 1 - Scheduler-Integration und Schleifenrückkopplung: Der Scheduler $\Phi$ ist definiert als: $\Phi = \{M_i | I \in R_i, \forall i \in \mathbb{Z}\}$

wobei $I \in \{y, u_e, u_\Delta\}$ den Historiendatensatz darstellt.

Schritt 2 - Nominales reduziertes Modell: Verwendung der Krylov-Momentenabgleich-Methode für parametrische Modellreduktion: $M_i := \begin{cases} \dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$

Schritt 3 - Integration partieller Rückkopplung: Integration partieller Zustandsrückkopplung in das reduzierte Modell durch explizite Einführung des Rückkopplungseingabekanals $B_f$.

Schritt 4 - Unsicherheitsbehandlung: Verwendung einer Zentralisierungsmethode zur Darstellung des Modells als: $\hat{P}(\Phi|I) = M_n + M_\Delta = M_n + \Delta_m(\Phi|I)$

Technische Innovationspunkte

1. Historiendaten-gesteuerte Schaltstrategie: Im Gegensatz zu Variablenverstärkungsregelungen, die nur auf der Amplitude von Rückkopplungssignalen basieren, nutzt diese Methode Historiendaten $I$ zur Modellauswahl.
2. Beibehaltung physikalischer Interpretierbarkeit: Durch die Krylov-Momentenabgleich-Methode wird die physikalische Interpretation des reduzierten Modells beibehalten.
3. Lur'e-Systemrahmen: Umwandlung des Systems in einen Lur'e-Systemrahmen, der lineare dynamische Teile mit nichtlinearen/unsicheren Teilen kombiniert.

Experimentelle Einrichtung

Experimentelle Plattform

• Gerät: ASML Twinscan hochmoderner Lithographiescanner
• Anwendungsszenario: Maskentischheizungs-Minderung
• Testbedingungen: 2 Chargen, je 16 Wafer pro Charge

Bewertungsindikatoren

1. Platzierungsfehler: Registrierungsplatzierungsfehler in x-y-Richtung
2. Durchsatzverbesserung: Zeiteinsparung pro Wafer
3. Stabilität: Leistungskonsistenz unter verschiedenen Betriebsbedingungen

Vergleichsmethoden

1. Traditionelle Methode: Aktuelle Standardmethode basierend auf Sensoren
2. Lineare Methode: Lineare Version unter Verwendung nur des nominalen Modells $M_n$

Implementierungsdetails

• Verwendung von 3 Momenten zur Beschreibung nominaler und unsicherer Maskentischheizungsmodelle
• Überspringen von Randausrichtungsmarken, Verwendung nur von oben-unten Ausrichtungsmarken
• Zeiteinsparung von etwa 0,3 Sekunden pro Wafer bei jeder Messung

Experimentelle Ergebnisse

Hauptergebnisse

1. Verbesserung des Platzierungsfehlers:
   • Platzierungsfehler in x-y-Richtung um das 2-3-fache gegenüber traditioneller Methode reduziert
   • Leistungsverbesserung um das 2-fache in x-y-Richtung bei den ersten 2 Wafern
   • Stabile und verbesserte Genauigkeit unter nominalen und unsicheren Bedingungen
2. Durchsatzverbesserung:
   • Zeiteinsparung von 0,3 Sekunden pro Wafer
   • Bis zu 7 zusätzliche Wafer pro Stunde möglich
3. Robustheitsvalidierung:
   • Lineare Methode zeigt 3-fache Leistungsverschlechterung unter unsicheren Bedingungen
   • Vorgeschlagene Methode behält konsistente Leistung über verschiedene Bildbereiche bei

Validierung verschiedener Bildbereiche

In Experimenten mit kleineren Belichtungsbereichen:

• Vorgeschlagene Methode zeigt 3-fache Leistungsverbesserung unter nominalen und unsicheren Bedingungen
• Lineare Methode zeigt 2-3-fache Leistungsverschlechterung
• Validiert Robustheit und Anpassungsfähigkeit der Methode

Stabilitätsanalyse

Durch das Kleingewinn-Theorem wird globale einheitliche endgültige Beschränktheit asymptotische Stabilität (GUAS) nachgewiesen, erfüllt:

• Physikalische Eigenschaften der Maskentischheizung gewährleisten begrenzte Dynamiken
• Sowohl nominale als auch unsichere Modelle erfüllen Stabilitätsbedingungen
• Der Gleichgewichtspunkt $x^*$ (wobei $\|z\| = 0$) ist GUAS

Verwandte Arbeiten

Regelung von Lithographiesystemen

• Traditionelle lineare prädiktive Regelungsmethoden sind durch den "Wasserbett-Effekt" begrenzt
• Nichtlineare Methoden umfassen Variablenverstärkungsregelung, Filter und Schalterregler
• Bestehende Methoden ignorieren oft räumlich-zeitliche Dynamiken

Modellreduktionsmethoden

• Ausgewogene Kürzung, Krylov-Unterraummethoden, Eigenorthogonale Zerlegung (POD)
• Bestehende Methoden reduzieren zwar die Dimension, verlieren aber physikalische Interpretierbarkeit
• Diese Methode behält physikalische Interpretation bei gleichzeitiger Recheneffizienz

Regelung schaltender Systeme

• Schalterstrategien basierend auf Historiendaten
• Ereignisgesteuerte Regelungsmethoden
• Stabilitätstheorie von Lur'e-Systemen

Schlussfolgerungen und Diskussion

Hauptschlussfolgerungen

1. Erfolgreiche Entwicklung eines Modells mit partieller Zustandsrückkopplung, reduzierter Ordnung und schaltender Vorhersage
2. Gleichzeitige Verbesserung von Genauigkeit und Durchsatz erreicht
3. Robustheit unter unsicheren Betriebsbedingungen validiert
4. Theoretische Stabilitätsgarantie bereitgestellt

Einschränkungen

1. Die Anwendbarkeit der Methode hängt von spezifischen physikalischen Systemeigenschaften ab
2. Der Entwurf der Schalterlogik erfordert Fachwissen
3. Die Modellreduktion kann unter extremen Bedingungen die Genauigkeit beeinträchtigen

Zukünftige Richtungen

1. Einheitlicher Vorhersagerahmen: Erweiterung auf räumliche und zeitliche Variationen des gesamten Systems
2. Intelligente Messungsoptimierung: Integration von Vorhersage, Lernen und Intelligenz zur Reduzierung unnötiger Messungen
3. Validierung praktischer Annahmen: Verringerung der Lücke zwischen theoretischen Konzepten und praktischer Anwendung

Tiefgreifende Bewertung

Stärken

1. Starke industrielle Relevanz: Direkte Lösung praktischer Probleme in der Halbleiterfertigung
2. Solide theoretische Grundlagen: Strenge Stabilitätsanalyse bereitgestellt
3. Umfassende experimentelle Validierung: Validierung auf echten Industriesystemen
4. Methodische Innovation: Neuartige Kombination von Modellreduktion, Schalterregelung und partieller Rückkopplung
5. Hoher praktischer Wert: Gleichzeitige Verbesserung von Genauigkeit und Durchsatz mit direktem wirtschaftlichem Wert

Mängel

1. Anwendungsbeschränkungen: Hauptsächlich auf Maskentischheizungsprobleme ausgerichtet, Verallgemeinerbarkeit auf andere Anwendungen zu überprüfen
2. Komplexitätsverwaltung: Entwurf und Optimierung der Schalterlogik erfordern möglicherweise umfangreiches Fachwissen
3. Vergleichende Experimente: Mangel an tiefgreifendem Vergleich mit anderen fortgeschrittenen Regelungsmethoden
4. Langzeitstabilität: Leistungsverschlechterung während des Langzeitbetriebs nicht ausreichend diskutiert

Einflussfaktor

1. Akademischer Wert: Bietet neuen theoretischen Rahmen für die Regelung räumlich-zeitlicher Systeme
2. Industrieller Wert: Direkte Anwendung auf Halbleiterausrüstung im Wert von Milliarden Dollar
3. Technologische Verbreitung: Methode ist auf andere Präzisionsfertigung übertragbar
4. Reproduzierbarkeit: Klare Implementierungsschritte und theoretische Grundlagen bereitgestellt

Anwendbare Szenarien

1. Präzisionsfertigung: Fertigungsprozesse, die Subnanometer-Präzision erfordern
2. Thermische Managementanwendungen: Systeme mit Thermoverformungsregelung
3. Hohe Durchsatzanforderungen: Szenarien, die Effizienzsteigerung bei Beibehaltung der Genauigkeit erfordern
4. Unsichere Umgebungen: Industriesysteme mit häufig wechselnden Betriebsbedingungen

Literaturverzeichnis

Das Papier zitiert 45 relevante Referenzen, die wichtige Arbeiten in mehreren Bereichen abdecken, einschließlich Regelungstheorie, Lithographietechnologie, Modellreduktion und Systemidentifikation, und bietet eine solide theoretische Grundlage und technischen Hintergrund für die Forschung.

Gesamtbewertung: Dies ist ein hochqualitatives Ingenieuranwendungspapier, das fortgeschrittene Regelungstheorie erfolgreich auf praktische Industrieprobleme anwendet und ein gutes Gleichgewicht zwischen theoretischer Strenge und praktischem Wert erreicht. Der Beitrag des Papiers liegt nicht nur in technologischer Innovation, sondern auch in der Bereitstellung praktischer Lösungen für die Halbleiterfertigung, eine kritische Industrie.