2025-11-21T14:40:15.746352

Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems

Subramanian, Moest, Paarhuis
This paper presents a partial state-feedback reduced-order switching predictive model designed to support the next-generation lithography roadmap. The proposed approach addresses the trade-off between increasing the number of measurements to improve overlay accuracy and the resulting challenges, including higher measurement noise, reduced throughput and overlay/placement errors under uncertain operating conditions.. By minimizing (die-) placement errors and reducing unnecessary measurements, the method enhances system performance and throughput. This solution employs a streamlined model with adaptive switching logic to manage time-varying uncertainties induced by fluctuating operating conditions. The methodology is implemented on a state-of-the-art lithographic scanner to mitigate the spatial-temporal dynamics of reticle heating, serving as a representative industrial application. Reticle heating, which worsens with increased throughput, introduces spatial-temporal distortions that directly degrade die placement accuracy. Experimental results demonstrate significant improvements: placement errors are reduced by a factor of $2-3$x, and throughput is improved by $0.3$seconds per wafer. Importantly, the method accounts for the fact that increased throughput can exacerbate reticle heating, which directly impacts overlay performance. By actively compensating for these thermomechanical effects, the proposed approach ensures that overlay accuracy is maintained or improved -- even under increased throughput conditions -- highlighting its potential for broader application in advanced lithographic systems, particularly in thermal and vibration control.
academic

Modelos Predictivos Conmutados de Orden Reducido con Retroalimentación de Estado Parcial para Sistemas de Litografía Óptica de Próxima Generación

Información Básica

  • ID del Artículo: 2402.13928
  • Título: Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems
  • Autores: Raaja Ganapathy Subramanian (Universidad Tecnológica de Eindhoven & ASML NV), Barry Moest (ASML NV), Bart Paarhuis (ASML NV)
  • Clasificación: math.OC (Optimización y Control Matemático)
  • Fecha de Publicación: Preimpresión presentada a Control Engineering Practice, 15 de octubre de 2025
  • Enlace del Artículo: https://arxiv.org/abs/2402.13928

Resumen

Este artículo propone un modelo predictivo conmutado de orden reducido con retroalimentación de estado parcial, diseñado para apoyar la hoja de ruta de tecnología de litografía de próxima generación. El método aborda el equilibrio entre aumentar el número de mediciones para mejorar la precisión de registro y los desafíos resultantes (incluyendo mayor ruido de medición, reducción de capacidad de producción y errores de registro/colocación bajo condiciones operativas inciertas). Al minimizar los errores de colocación de chips y reducir las mediciones innecesarias, el método mejora el desempeño del sistema y la capacidad de producción. La solución emplea un modelo simplificado con lógica de conmutación adaptativa para gestionar la incertidumbre variante en el tiempo causada por condiciones operativas fluctuantes. El método se implementa en un escáner de litografía de última generación para mitigar la dinámica espacio-temporal del calentamiento de la placa de máscaras, como aplicación industrial representativa. El calentamiento de la placa de máscaras se deteriora con el aumento de la capacidad de producción, introduciendo distorsión espacio-temporal que reduce directamente la precisión de colocación de chips. Los resultados experimentales muestran mejoras significativas: reducción de errores de colocación de 2-3 veces y aumento de capacidad de producción de 0.3 segundos por oblea.

Antecedentes de Investigación y Motivación

Contexto del Problema

  1. Importancia de la Tecnología de Litografía: La litografía es la técnica más crítica en el proceso de fabricación de semiconductores, determinando la escala de fabricación de elementos de chips e impactando directamente la calidad de producción de circuitos integrados.
  2. Desafíos Técnicos:
    • Tamaños de características mínimas desde 3 nm hasta 500 nm, requiriendo precisión subnanomérica
    • Contradicción entre requisitos de alta capacidad de producción y alta precisión
    • Impacto de comportamientos dinámicos espacio-temporales en el desempeño del sistema
  3. Limitaciones de Métodos Existentes:
    • Desajuste entre suposiciones de simulación y comportamiento del sistema en tiempo real
    • Sensibilidad a incertidumbre e interferencias externas
    • Dificultad para garantizar estabilidad global en lazo cerrado durante operación en tiempo real
    • Equilibrio entre precisión del modelado físico y simplicidad del modelo
    • Limitaciones en modularidad, escalabilidad y costo de implementación

Motivación de la Investigación

Este artículo tiene como objetivo cerrar la brecha entre conceptos teóricos de control y la implementación práctica en sistemas de litografía, proponiendo un método de control predictivo conmutado de orden reducido con retroalimentación de estado parcial que mantenga la capacidad de producción y el desempeño de registro.

Contribuciones Principales

  1. Diseño de Modelo de Orden Reducido: Se propone el uso de modelos lineales invariantes en el tiempo de orden reducido derivados de la dinámica de sistemas de gran escala nominales (modelos de elementos finitos), mediante desacoplamiento selectivo de dinámicas espacio-temporales críticas, asegurando eficiencia computacional sin comprometer la fidelidad del modelo.
  2. Mecanismo de Conmutación Adaptativa: Se introduce un mecanismo de lógica de conmutación que se adapta a incertidumbres causadas por efectos físicos, mejorando la robustez.
  3. Garantías de Estabilidad: Se demuestra que la estrategia de control propuesta garantiza estabilidad asintótica acotada uniformemente global (GUAS), respaldada por el teorema de ganancia pequeña para sistemas no lineales.
  4. Verificación Industrial: Se implementa y verifica en un sistema de litografía de última generación, enfocándose en mitigar la distorsión espacio-temporal causada por calentamiento de la placa de máscaras.

Explicación Detallada del Método

Definición de la Tarea

Entradas:

  • Estado del sistema x∈Rnx \in \mathbb{R}^n (deformación completa predicha de la placa de máscaras)
  • Entrada exógena ue∈Rmu_e \in \mathbb{R}^m (fuentes de calor)
  • Datos de sensores dispersos y∈Rqy \in \mathbb{R}^q

Salidas:

  • Salida relacionada con error de colocación z∈Rpz \in \mathbb{R}^p

Restricciones:

  1. El desalineamiento predicho permanece acotado: ∥z∥≤ε\|z\| \leq \varepsilon (nivel subnanomérico)
  2. Reducción del tiempo de medición, omitiendo selectivamente mediciones de ciertos conjuntos de marcas

Arquitectura del Modelo

Formulación en Espacio de Estados

La formulación en espacio de estados del sistema es:

undefined