We report on magnetic anisotropy modulation in Bismuth substituted Yttrium Iron Garnet (Bi-YIG) thin films and mesoscale patterned structures deposited on a PMN-PT substrate with the application of voltage-induced strain. The Bi content is selected for low coercivity and higher magnetostriction than that of YIG, yielding significant changes in the hysteresis loops through the magnetoelastic effect. The piezoelectric substrate is poled along its thickness, which is the [011] direction, by applying a voltage across the PMN-PT/SiO2/Bi-YIG/Pt heterostructure. In-situ magneto-optical Kerr effect microscopy (MOKE) shows the modulation of magnetic anisotropy with voltage-induced strain. Furthermore, voltage control of the magnetic domain state of the Bi-YIG film at a fixed magnetic field produces a 90° switching of the magnetization easy axis above a threshold voltage. The magnetoelectric coefficient of the heterostructure is 1.05x10^(-7)s/m which is competitive with that of other ferromagnetic oxide films on ferroelectric substrates such as La0.67Sr0.33MnO3/PMNPT and YIG/PMN-PZT. Voltage-control of magnetization reversal fields in 5-30 microns wide dots and racetracks of Bi-YIG show potential for energy efficient non-volatile memory and neuromorphic computing devices.
- Identifiant de l'article: 2501.00980
- Titre: Strain Mediated Voltage Control of Magnetic Anisotropy and Magnetization Reversal in Bismuth Substituted Yttrium Iron Garnet Films and Meso-structures
- Auteurs: Walid Al Misba, Miela Josephine Gross, Kensuke Hayashi, Daniel B. Gopman, Caroline A. Ross, Jayasimha Atulasimha
- Classification: cond-mat.mtrl-sci cond-mat.mes-hall
- Institutions de recherche: Université du Commonwealth de Virginie, Institut de Technologie du Massachusetts, Université de Nagoya, Institut National des Normes et de la Technologie des États-Unis
- Lien de l'article: https://arxiv.org/abs/2501.00980
Cette étude rapporte les résultats de la modulation de l'anisotropie magnétique réalisée par déformation induite par tension dans des films de grenat de fer yttrium substitué au bismuth (Bi-YIG) et des structures à motifs à l'échelle mésoscopique déposés sur des substrats PMN-PT. L'étude a sélectionné des teneurs spécifiques en bismuth pour obtenir une coercivité inférieure à celle du YIG et une magnétostriction plus élevée, produisant des changements significatifs dans les cycles d'hystérésis magnétique par effet magnétoélastique. En appliquant une tension sur l'hétérostructure PMN-PT/SiO₂/Bi-YIG/Pt, le substrat piézoélectrique a été polarisé le long de la direction de l'épaisseur (direction 011). La microscopie à effet Kerr magnéto-optique (MOKE) in situ a montré la modulation de l'anisotropie magnétique induite par la tension. À champ magnétique constant, le contrôle par tension de l'état du domaine magnétique du film Bi-YIG a permis une commutation de l'axe de facile aimantation de 90°. Le coefficient magnétoélectrique de cette hétérostructure est de 1,05×10⁻⁷ s/m, comparable aux performances d'autres films d'oxydes ferromagnétiques sur substrats ferroélectriques. L'inversion de l'aimantation contrôlée par tension dans les structures de points et de pistes Bi-YIG de 5-30 micromètres de largeur démontre le potentiel d'application dans les dispositifs de stockage non-volatil économe en énergie et les calculateurs neuromorphes.
- Problème de consommation d'énergie: Les mémoires d'accès aléatoire magnétiques actuelles nécessitent une densité de courant d'environ 10¹¹ A/m² pour l'écriture, avec une consommation énergétique d'environ 10 fJ, tandis que les dispositifs multiferroïques ne nécessitent que 1-100 aJ
- Besoin de couplage magnétoélectrique: Nécessité de contrôler l'aimantation par champ électrique pour réaliser des dispositifs de stockage magnétique haute densité et basse consommation
- Limitations des matériaux: Bien que les matériaux multiferroïques monophasés présentent directement le couplage magnétoélectrique, les hétérostructures composites offrent un couplage magnétoélectrique 3-4 ordres de grandeur plus fort
- Mécanisme de transfert de déformation: Exploitation du mécanisme de transfert de déformation mécanique dans les hétérostructures composites ferroélectrique-ferromagnétique pour réaliser une dissipation thermique faible et un coefficient magnétoélectrique élevé
- Avantages des matériaux: Le Bi-YIG possède des avantages tels qu'une tangente de perte faible, une vitesse de paroi de domaine importante, un amortissement de Gilbert faible et une activité magnéto-optique
- Défis technologiques: Résoudre le problème de désadaptation de réseau pour la croissance de grenats ferromagnétiques sur des composés piézoélectriques
- Première réalisation de la commutation du contrôle par tension de l'axe de facile aimantation de 90° dans l'hétérostructure Bi-YIG/PMN-PT
- Développement de la technologie de couche tampon SiO₂, résolvant le problème d'adaptation de réseau pour les grenats sur substrats piézoélectriques
- Obtention d'un coefficient magnétoélectrique de 1,05×10⁻⁷ s/m, comparable aux autres systèmes ferromagnétique/ferroélectrique à oxydes
- Réalisation de l'inversion de l'aimantation contrôlée par tension dans des structures à motifs à l'échelle micrométrique, démontrant le potentiel d'application dans les dispositifs de stockage et neuromorphes
- Observation in situ de la dynamique des domaines magnétiques par microscopie MOKE
- Traitement du substrat: Dépôt par pulvérisation cathodique radiofréquence d'une couche tampon SiO₂ amorphe de 2,4 nm sur un substrat PMN-PT (011) d'épaisseur 0,5 mm
- Croissance du film: Utilisation de dépôt par ablation laser pulsée (PLD) pour la co-ablation des cibles YIG et BFO à température ambiante, obtenant un film Bi-YIG d'épaisseur 45,6 nm de composition Bi₂,₁₃Y₁,₄₀Fe₅Oₓ
- Post-traitement: Recuit en four à 600°C pendant 72 heures pour cristalliser la structure grenat
L'hétérostructure est PMN-PT/SiO₂/Bi-YIG/Pt, où:
- PMN-PT: substrat piézoélectrique, polarisé selon la direction 011
- SiO₂: couche tampon de 2,4 nm, évitant la croissance épitaxiale produisant une structure de ferrite
- Bi-YIG: couche ferromagnétique de 45,6 nm
- Pt: électrode supérieure
L'expression de l'énergie magnétoélastique est:
Fme=−23λs1+νYεxxsin2θcos2φ−23λs1+νYεyysin2θsin2φ
où λs≈−4×10−6 est le coefficient de magnétostriction négatif, et εxx et εyy sont les composantes de déformation.
- Caractérisation structurale: Diffraction des rayons X en incidence rasante (GIXD) et réflectivité des rayons X (XRR)
- Mesures magnétiques: Magnétométrie à échantillon vibrant (VSM) pour mesurer les cycles d'hystérésis magnétique dans le plan et hors du plan
- Observation morphologique: Microscopie électronique à balayage (MEB) pour observer la structure des grains
- Observation des domaines magnétiques: Microscopie à effet Kerr magnéto-optique (MOKE) in situ
Utilisation de photolithographie et gravure par faisceau d'ions pour préparer des structures elliptiques et de piste de taille minimale 5 μm
- Tension de polarisation: 450 V, durée 90 minutes
- Plage de tension de test: 0-450 V, pas de 50 V
- Source lumineuse MOKE: lumière bleue (λ ≈ 465 nm)
- Plage de champ magnétique: ±88 mT
- Structure cristalline: GIXD montre les pics caractéristiques du grenat polycristallin, sans texture forte
- Propriétés magnétiques: Aimantation à saturation 101±5 kA/m, coercivité dans le plan 10±5 mT
- Microstructure: Taille des grains 1-3 μm, quelques régions amorphes
- Effet de déformation: La déformation compressive le long de la direction x̂ augmente, la coercivité passant de 25±2 mT à 27±2 mT
- Conversion de l'axe facile: Avec l'augmentation de la tension, l'axe de facile aimantation passe de la direction ŷ à la direction x̂
- Variation de la carrure: La carrure dans la direction x̂ augmente avec la tension, tandis que celle dans la direction ŷ diminue
Le coefficient magnétoélectrique calculé est αₑ = 1,05×10⁻⁷ s/m, avec une valeur maximale obtenue lors d'une variation de tension de 0 V à -50 V.
- Structures elliptiques: Le champ de commutation passe d'un champ élevé à 8 mT lorsque la tension diminue de 450 V à 0 V
- Structures de piste: Le champ de propagation de la paroi de domaine passe de 7 mT (0 V) à 6 mT (450 V)
- Transfert de déformation: Transfert de déformation mécanique à l'interface ferroélectrique-ferromagnétique
- Effets d'interface: Modulation de la densité d'états de spin
- Migration ionique: Migration d'ions oxygène induite par la tension
Avantages par rapport aux autres systèmes:
- Couplage magnétoélectrique plus fort que les matériaux multiferroïques monophasés
- Amortissement plus faible et contrôle d'aimantation plus rapide que les matériaux ferromagnétiques métalliques
- Résolution du problème de croissance des grenats sur substrats piézoélectriques
- Réalisation réussie de la commutation du contrôle par tension de l'axe de facile aimantation de 90° dans les films Bi-YIG
- La technologie de couche tampon SiO₂ résout efficacement le problème d'adaptation de réseau
- Le coefficient magnétoélectrique est comparable aux autres systèmes à oxydes, montrant de bonnes perspectives d'application
- Les dispositifs à l'échelle micrométrique démontrent le potentiel dans le stockage et l'informatique neuromorphe
- Largeur de raie importante: La largeur de raie de résonance ferromagnétique du film polycristallin est d'environ 200 mT, bien supérieure aux 5 mT des films monocristallins
- Effets de contrainte: La contrainte élevée du film affecte les propriétés magnétiques
- Optimisation du procédé: Optimisation supplémentaire des paramètres de procédé et de la composition nécessaire
- Optimisation du procédé de croissance du film pour réduire la largeur de raie
- Exploration des effets de résonance pour améliorer la réponse magnétoélectrique
- Développement de prototypes de dispositifs pratiques basés sur cette technologie
- Innovation technologique: Première réalisation de la commutation de l'axe facile de 90° dans le système Bi-YIG/PMN-PT
- Percée technologique: La technologie de couche tampon SiO₂ offre une nouvelle voie pour les hétérostructures grenat/piézoélectrique
- Recherche systématique: Chaîne de recherche complète allant des films aux structures structurées
- Valeur pratique: Démonstration du potentiel d'application dans les dispositifs de stockage basse consommation
- Limitations de performance: La structure polycristalline entraîne une largeur de raie plus large limitant les performances du dispositif
- Analyse mécanique: L'analyse théorique de la dynamique des domaines magnétiques est relativement simple
- Intégration de dispositifs: Manque de discussion sur la compatibilité avec les procédés de semi-conducteurs existants
- Contribution académique: Fournit un nouveau système de matériaux et une nouvelle méthode de procédé au domaine des matériaux magnétoélectriques composites
- Perspectives d'application: Fournit une base technologique pour les dispositifs de stockage magnétique basse consommation de prochaine génération
- Valeur technologique: La technologie de couche tampon SiO₂ peut être étendue à d'autres compositions de grenats et matériaux de substrat
- Dispositifs de stockage magnétique: Mémoire d'accès aléatoire magnétique (MRAM)
- Informatique neuromorphe: Dispositifs de synapse neurale basés sur la dynamique des parois de domaine
- Électronique de spin: Dispositifs à ondes de spin et dispositifs magnéto-optiques
- Capteurs: Capteurs de courant et capteurs de champ magnétique
L'article cite 60 références connexes, couvrant plusieurs domaines importants tels que les matériaux multiferroïques, le couplage magnétoélectrique, la croissance de films de grenat, l'électronique de spin, etc., fournissant une base théorique solide et un contexte technique pour cette recherche.
Résumé des Points Techniques:
- Résolution innovante du problème de croissance des grenats sur substrats piézoélectriques
- Réalisation de la commutation de l'axe de facile aimantation de 90° contrôlée par tension
- Démonstration d'une voie de recherche complète allant des matériaux fondamentaux aux dispositifs fonctionnels
- Fourniture d'une nouvelle solution technologique pour les dispositifs magnétoélectroniques basse consommation