2025-11-21T14:40:15.746352

Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems

Subramanian, Moest, Paarhuis
This paper presents a partial state-feedback reduced-order switching predictive model designed to support the next-generation lithography roadmap. The proposed approach addresses the trade-off between increasing the number of measurements to improve overlay accuracy and the resulting challenges, including higher measurement noise, reduced throughput and overlay/placement errors under uncertain operating conditions.. By minimizing (die-) placement errors and reducing unnecessary measurements, the method enhances system performance and throughput. This solution employs a streamlined model with adaptive switching logic to manage time-varying uncertainties induced by fluctuating operating conditions. The methodology is implemented on a state-of-the-art lithographic scanner to mitigate the spatial-temporal dynamics of reticle heating, serving as a representative industrial application. Reticle heating, which worsens with increased throughput, introduces spatial-temporal distortions that directly degrade die placement accuracy. Experimental results demonstrate significant improvements: placement errors are reduced by a factor of $2-3$x, and throughput is improved by $0.3$seconds per wafer. Importantly, the method accounts for the fact that increased throughput can exacerbate reticle heating, which directly impacts overlay performance. By actively compensating for these thermomechanical effects, the proposed approach ensures that overlay accuracy is maintained or improved -- even under increased throughput conditions -- highlighting its potential for broader application in advanced lithographic systems, particularly in thermal and vibration control.
academic

आंशिक अवस्था-प्रतिक्रिया न्यूनीकृत-क्रम स्विचिंग भविष्यसूचक मॉडल अगली पीढ़ी के ऑप्टिकल लिथोग्राफी सिस्टम के लिए

मूल जानकारी

  • पेपर ID: 2402.13928
  • शीर्षक: आंशिक अवस्था-प्रतिक्रिया न्यूनीकृत-क्रम स्विचिंग भविष्यसूचक मॉडल अगली पीढ़ी के ऑप्टिकल लिथोग्राफी सिस्टम के लिए
  • लेखक: राज गणपति सुब्रमण्यन (आइंडहोवन प्रौद्योगिकी विश्वविद्यालय और ASML NV), बैरी मोएस्ट (ASML NV), बार्ट पारहुइस (ASML NV)
  • वर्गीकरण: math.OC (गणितीय अनुकूलन और नियंत्रण)
  • प्रकाशन समय: नियंत्रण इंजीनियरिंग अभ्यास के लिए प्रीप्रिंट प्रस्तुत, 15 अक्टूबर 2025
  • पेपर लिंक: https://arxiv.org/abs/2402.13928

सारांश

यह पेपर आंशिक अवस्था प्रतिक्रिया न्यूनीकृत-क्रम स्विचिंग भविष्यसूचक मॉडल प्रस्तावित करता है, जो अगली पीढ़ी के लिथोग्राफी तकनीकी मार्गदर्शन का समर्थन करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। यह विधि माप की संख्या बढ़ाने और संरेखण सटीकता में सुधार के बीच व्यापार-बंद को संबोधित करती है, साथ ही इससे जुड़ी चुनौतियों (उच्च माप शोर, कम उत्पादन क्षमता, और अनिश्चित परिचालन स्थितियों में संरेखण/प्लेसमेंट त्रुटि) को भी संबोधित करती है। चिप प्लेसमेंट त्रुटि को कम करके और अनावश्यक मापों को कम करके, यह विधि सिस्टम प्रदर्शन और उत्पादन क्षमता में सुधार करती है। समाधान अनुकूली स्विचिंग तर्क के साथ सुव्यवस्थित मॉडल का उपयोग करता है ताकि उतार-चढ़ाव वाली परिचालन स्थितियों के कारण होने वाली समय-परिवर्तनशील अनिश्चितता को प्रबंधित किया जा सके। यह विधि अत्याधुनिक लिथोग्राफी स्कैनर पर लागू की जाती है ताकि मास्क प्लेट हीटिंग के स्पेस-टाइम गतिशीलता को कम किया जा सके, जो एक प्रतिनिधि औद्योगिक अनुप्रयोग है। मास्क प्लेट हीटिंग उत्पादन क्षमता के साथ बिगड़ता है, स्पेस-टाइम विकृति का परिचय देता है, जो सीधे चिप प्लेसमेंट सटीकता को कम करता है। प्रायोगिक परिणाम महत्वपूर्ण सुधार दिखाते हैं: प्लेसमेंट त्रुटि में 2-3 गुना कमी, प्रति वेफर उत्पादन क्षमता में 0.3 सेकंड की वृद्धि।

अनुसंधान पृष्ठभूमि और प्रेरणा

समस्या की पृष्ठभूमि

  1. लिथोग्राफी तकनीक का महत्व: लिथोग्राफी अर्धचालक विनिर्माण प्रक्रिया में सबसे महत्वपूर्ण तकनीक है, जो चिप तत्वों के विनिर्माण पैमाने को निर्धारित करती है, और एकीकृत सर्किट के उत्पादन गुणवत्ता को सीधे प्रभावित करती है।
  2. तकनीकी चुनौतियाँ:
    • न्यूनतम विशेषता आकार 3nm से 500nm तक, जिसमें सबनैनोमीटर-स्तर की सटीकता की आवश्यकता है
    • उच्च उत्पादन क्षमता की आवश्यकता और उच्च सटीकता की आवश्यकता के बीच विरोधाभास
    • स्पेस-टाइम गतिशील व्यवहार का सिस्टम प्रदर्शन पर प्रभाव
  3. मौजूदा विधियों की सीमाएँ:
    • सिमुलेशन धारणाएँ और वास्तविक समय प्रणाली व्यवहार का असंगति
    • अनिश्चितता और बाहरी व्यवधान के प्रति संवेदनशीलता
    • वास्तविक समय संचालन में वैश्विक बंद-लूप स्थिरता सुनिश्चित करने में कठिनाई
    • भौतिक मॉडलिंग सटीकता और मॉडल सरलता के बीच व्यापार-बंद
    • मॉड्यूलरिटी, स्केलेबिलिटी और कार्यान्वयन लागत की सीमाएँ

अनुसंधान प्रेरणा

यह पेपर सैद्धांतिक नियंत्रण अवधारणाओं और लिथोग्राफी प्रणाली के व्यावहारिक कार्यान्वयन के बीच के अंतर को पाटने का लक्ष्य रखता है, उत्पादन क्षमता और संरेखण प्रदर्शन को बनाए रखते हुए एक आंशिक अवस्था प्रतिक्रिया, न्यूनीकृत-क्रम स्विचिंग भविष्यसूचक नियंत्रण विधि प्रस्तावित करता है।

मूल योगदान

  1. न्यूनीकृत-क्रम मॉडल डिज़ाइन: मानक बड़े पैमाने की प्रणाली गतिशीलता (परिमित तत्व मॉडल) से प्राप्त न्यूनीकृत रैखिक समय-अपरिवर्तनीय मॉडल का उपयोग करने का प्रस्ताव, महत्वपूर्ण स्पेस-टाइम गतिशीलता के चयनात्मक विघटन के माध्यम से, मॉडल विश्वसनीयता को नुकसान पहुँचाए बिना कम्प्यूटेशनल दक्षता सुनिश्चित करता है।
  2. अनुकूली स्विचिंग तंत्र: स्विचिंग तर्क तंत्र का परिचय, जो भौतिक प्रभावों के कारण अनिश्चितता के अनुकूल है, मजबूतता में सुधार करता है।
  3. स्थिरता गारंटी: प्रस्तावित नियंत्रण रणनीति वैश्विक समान अंतिम-बद्ध स्पर्शोन्मुख स्थिरता (GUAS) सुनिश्चित करती है, जो अरैखिक प्रणाली लघु-लाभ प्रमेय द्वारा समर्थित है।
  4. औद्योगिक सत्यापन: अत्याधुनिक लिथोग्राफी प्रणाली पर कार्यान्वित और सत्यापित, मास्क प्लेट हीटिंग के कारण स्पेस-टाइम विकृति को कम करने पर केंद्रित।

विधि विवरण

कार्य परिभाषा

इनपुट:

  • प्रणाली अवस्था x∈Rnx \in \mathbb{R}^n (भविष्यसूचक पूर्ण मास्क प्लेट विरूपण)
  • बाहरी इनपुट ue∈Rmu_e \in \mathbb{R}^m (तापीय स्रोत)
  • विरल सेंसर डेटा y∈Rqy \in \mathbb{R}^q

आउटपुट:

  • प्लेसमेंट त्रुटि से संबंधित आउटपुट z∈Rpz \in \mathbb{R}^p

बाधा शर्तें:

  1. भविष्यसूचक विस्थापन सीमित रहता है: ∥z∥≤ε\|z\| \leq \varepsilon (सबनैनोमीटर-स्तर)
  2. माप समय कम करें, कुछ मार्कर सेट के माप को चयनात्मक रूप से छोड़ें

मॉडल आर्किटेक्चर

अवस्था-स्पेस प्रतिनिधित्व

प्रणाली का अवस्था-स्पेस प्रतिनिधित्व इस प्रकार है:

\dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e + B_f u_f \\ u_f = \Gamma(.)y \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$$ जहाँ: - $x_i$: आंतरिक विरूपण अवस्था - $u_e$: बाहरी हीटिंग प्रोफाइल - $u_f$: संरेखण सेंसर से प्रतिक्रिया संकेत - $\Gamma(.)$: विरल प्रतिक्रिया माप को उपयुक्त घने लेआउट में परिवर्तित करने वाला फ़ंक्शन - $C_i$: $x_i$ से $u_i$ तक आउटपुट मैपिंग #### चार-चरणीय डिज़ाइन विधि **चरण 1 - शेड्यूलर एकीकरण और बंद-लूप प्रतिक्रिया**: शेड्यूलर $\Phi$ को इस प्रकार परिभाषित किया जाता है: $$\Phi = \{M_i | I \in R_i, \forall i \in \mathbb{Z}\}$$ जहाँ $I \in \{y, u_e, u_\Delta\}$ ऐतिहासिक सूचना सेट का प्रतिनिधित्व करता है। **चरण 2 - मानक न्यूनीकृत-क्रम मॉडल**: क्रायलोव मोमेंट मिलान विधि का उपयोग करके पैरामीटरीकरण में कमी: $$M_i := \begin{cases} \dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$$ **चरण 3 - आंशिक प्रतिक्रिया एकीकरण**: प्रतिक्रिया इनपुट चैनल $B_f$ को स्पष्ट रूप से प्रस्तुत करके न्यूनीकृत-क्रम मॉडल में आंशिक अवस्था प्रतिक्रिया को एकीकृत करना। **चरण 4 - अनिश्चितता प्रबंधन**: मॉडल को इस प्रकार प्रस्तुत करने के लिए केंद्रीकरण विधि का उपयोग: $$\hat{P}(\Phi|I) = M_n + M_\Delta = M_n + \Delta_m(\Phi|I)$$ ### तकनीकी नवाचार बिंदु 1. **ऐतिहासिक सूचना-संचालित स्विचिंग रणनीति**: केवल प्रतिक्रिया संकेत आयाम पर आधारित परिवर्तनशील-लाभ नियंत्रण के विपरीत, यह विधि मॉडल चयन को निर्देशित करने के लिए ऐतिहासिक डेटा $I$ का उपयोग करती है। 2. **भौतिक व्याख्यात्मकता का संरक्षण**: क्रायलोव मोमेंट मिलान विधि के माध्यम से न्यूनीकृत-क्रम मॉडल की मूल भौतिक व्याख्या को संरक्षित करना। 3. **Lur'e-प्रकार प्रणाली ढाँचा**: प्रणाली को Lur'e-प्रकार प्रणाली में परिवर्तित करना, रैखिक गतिशील भाग और अरैखिक/अनिश्चित भाग को जोड़ना। ## प्रायोगिक सेटअप ### प्रायोगिक मंच - **उपकरण**: ASML Twinscan अत्याधुनिक लिथोग्राफी स्कैनर - **अनुप्रयोग परिदृश्य**: मास्क प्लेट हीटिंग शमन - **परीक्षण स्थितियाँ**: 2 बैच, प्रत्येक बैच में 16 वेफर ### मूल्यांकन संकेतक 1. **प्लेसमेंट त्रुटि**: x-y दिशा में संरेखण प्लेसमेंट त्रुटि 2. **उत्पादन क्षमता वृद्धि**: प्रति वेफर समय बचत 3. **स्थिरता**: विभिन्न परिचालन स्थितियों में प्रदर्शन सामंजस्य ### तुलना विधियाँ 1. **पारंपरिक विधि**: सेंसर-आधारित वर्तमान मानक विधि 2. **रैखिक विधि**: केवल मानक मॉडल $M_n$ का उपयोग करने वाली रैखिक संस्करण ### कार्यान्वयन विवरण - मानक और अनिश्चित मास्क प्लेट हीटिंग मॉडल का वर्णन करने के लिए 3 मोमेंट का उपयोग - किनारे संरेखण मार्कर को छोड़ें, केवल शीर्ष-नीचे संरेखण मार्कर का उपयोग करें - प्रत्येक माप से लगभग 0.3 सेकंड/वेफर की बचत ## प्रायोगिक परिणाम ### मुख्य परिणाम 1. **प्लेसमेंट त्रुटि में सुधार**: - पारंपरिक विधि की तुलना में, x-y दिशा में प्लेसमेंट त्रुटि में 2-3 गुना कमी - पहले 2 वेफर के x-y दिशा प्रदर्शन में 2 गुना सुधार - मानक और अनिश्चित स्थितियों दोनों में स्थिर और सुधारी गई सटीकता बनाए रखता है 2. **उत्पादन क्षमता वृद्धि**: - प्रति वेफर 0.3 सेकंड की बचत - प्रति घंटे 7 वेफर तक उत्पादन क्षमता में वृद्धि 3. **मजबूतता सत्यापन**: - रैखिक विधि अनिश्चित स्थितियों में 3 गुना प्रदर्शन में गिरावट - प्रस्तावित विधि विभिन्न छवि क्षेत्रों में सामंजस्यपूर्ण प्रदर्शन बनाए रखती है ### विभिन्न छवि क्षेत्र सत्यापन छोटे एक्सपोजर क्षेत्र के प्रयोगों में: - प्रस्तावित विधि मानक और अनिश्चित स्थितियों में 3 गुना प्रदर्शन सुधार - रैखिक विधि 2-3 गुना प्रदर्शन में गिरावट - विधि की मजबूतता और अनुकूलनशीलता को सत्यापित करता है ### स्थिरता विश्लेषण लघु-लाभ प्रमेय के माध्यम से वैश्विक समान अंतिम-बद्ध स्पर्शोन्मुख स्थिरता (GUAS) को सिद्ध किया गया है, जो निम्नलिखित को संतुष्ट करता है: - मास्क प्लेट हीटिंग भौतिकी सीमित गतिशीलता सुनिश्चित करती है - मानक और अनिश्चित मॉडल दोनों स्थिरता शर्तों को संतुष्ट करते हैं - संतुलन बिंदु $x^*$ (जहाँ $\|z\| = 0$) GUAS है ## संबंधित कार्य ### लिथोग्राफी प्रणाली नियंत्रण - पारंपरिक रैखिक भविष्यसूचक नियंत्रण विधि "वाटरबेड प्रभाव" द्वारा सीमित - अरैखिक विधियों में परिवर्तनशील-लाभ नियंत्रण, फ़िल्टर और स्विचिंग नियंत्रक शामिल हैं - मौजूदा विधियाँ अक्सर स्पेस-टाइम गतिशीलता को नजरअंदाज करती हैं ### मॉडल न्यूनीकरण तकनीकें - संतुलित ट्रंकेशन, क्रायलोव सबस्पेस विधि, उचित ऑर्थोगोनल अपघटन (POD) - मौजूदा विधियाँ हालांकि आयाम को कम करती हैं लेकिन भौतिक व्याख्यात्मकता खो देती हैं - यह पेपर कम्प्यूटेशनल दक्षता प्राप्त करते हुए भौतिक व्याख्या को संरक्षित करता है ### स्विचिंग प्रणाली नियंत्रण - ऐतिहासिक सूचना-आधारित स्विचिंग रणनीति - घटना-संचालित नियंत्रण विधि - Lur'e प्रणाली स्थिरता सिद्धांत ## निष्कर्ष और चर्चा ### मुख्य निष्कर्ष 1. आंशिक अवस्था प्रतिक्रिया न्यूनीकृत-क्रम स्विचिंग भविष्यसूचक मॉडल का सफल विकास 2. सटीकता और उत्पादन क्षमता दोनों में सुधार का कार्यान्वयन 3. अनिश्चित परिचालन स्थितियों में मजबूतता का सत्यापन 4. सैद्धांतिक स्थिरता गारंटी प्रदान करता है ### सीमाएँ 1. विधि की प्रयोज्यता विशिष्ट भौतिक प्रणाली विशेषताओं पर निर्भर करती है 2. स्विचिंग तर्क का डिज़ाइन डोमेन विशेषज्ञता की आवश्यकता है 3. मॉडल न्यूनीकरण कुछ चरम स्थितियों में सटीकता को प्रभावित कर सकता है ### भविष्य की दिशाएँ 1. **एकीकृत भविष्यसूचक ढाँचा**: संपूर्ण प्रणाली के स्पेस और टाइम भिन्नता तक विस्तार 2. **बुद्धिमान माप अनुकूलन**: अनावश्यक मापों को कम करने के लिए भविष्यसूचक, शिक्षा और बुद्धिमत्ता को एकीकृत करना 3. **व्यावहारिक धारणा सत्यापन**: सैद्धांतिक अवधारणाओं और व्यावहारिक अनुप्रयोग के बीच के अंतर को कम करना ## गहन मूल्यांकन ### शक्तियाँ 1. **औद्योगिक प्रासंगिकता मजबूत**: अर्धचालक विनिर्माण में वास्तविक समस्याओं को सीधे संबोधित करता है 2. **सैद्धांतिक आधार दृढ़**: कठोर स्थिरता विश्लेषण प्रदान करता है 3. **प्रायोगिक सत्यापन पर्याप्त**: वास्तविक औद्योगिक प्रणाली पर प्रभाव सत्यापित करता है 4. **विधि नवाचार**: न्यूनीकृत मॉडलिंग, स्विचिंग नियंत्रण और आंशिक प्रतिक्रिया को जोड़ने वाली नई विधि 5. **व्यावहारिक मूल्य उच्च**: सटीकता और उत्पादन क्षमता दोनों में सुधार, सीधे आर्थिक मूल्य के साथ ### कमियाँ 1. **अनुप्रयोग सीमितता**: मुख्य रूप से मास्क प्लेट हीटिंग समस्या पर केंद्रित, अन्य अनुप्रयोगों के लिए सामान्यीकरण की जाँच की जानी बाकी है 2. **जटिलता प्रबंधन**: स्विचिंग तर्क का डिज़ाइन और ट्यूनिंग काफी विशेषज्ञता की आवश्यकता हो सकती है 3. **तुलना प्रयोग**: अन्य उन्नत नियंत्रण विधियों के साथ गहन तुलना की कमी 4. **दीर्घकालीन स्थिरता**: दीर्घकालीन संचालन में प्रदर्शन क्षरण पर पर्याप्त चर्चा नहीं ### प्रभाव 1. **शैक्षणिक मूल्य**: स्पेस-टाइम प्रणाली नियंत्रण के लिए नया सैद्धांतिक ढाँचा प्रदान करता है 2. **औद्योगिक मूल्य**: दसियों अरब डॉलर के अर्धचालक उपकरण में सीधे अनुप्रयोग 3. **तकनीकी प्रचार**: विधि अन्य सटीक विनिर्माण प्रणालियों तक विस्तारित हो सकती है 4. **पुनरुत्पादनीयता**: स्पष्ट कार्यान्वयन चरण और सैद्धांतिक आधार प्रदान करता है ### प्रयोज्य परिदृश्य 1. **सटीक विनिर्माण प्रणाली**: सबनैनोमीटर-स्तर की सटीकता की आवश्यकता वाली विनिर्माण प्रक्रियाएँ 2. **तापीय प्रबंधन अनुप्रयोग**: तापीय विरूपण नियंत्रण से जुड़ी प्रणालियाँ 3. **उच्च उत्पादन क्षमता आवश्यकता**: सटीकता बनाए रखते हुए दक्षता बढ़ाने की आवश्यकता वाले परिदृश्य 4. **अनिश्चित पर्यावरण**: परिचालन स्थितियों में बार-बार परिवर्तन वाली औद्योगिक प्रणालियाँ ## संदर्भ पेपर नियंत्रण सिद्धांत, लिथोग्राफी तकनीक, मॉडल न्यूनीकरण और प्रणाली पहचान सहित कई क्षेत्रों के महत्वपूर्ण कार्यों को कवर करते हुए 45 संबंधित संदर्भों का हवाला देता है, जो अनुसंधान के लिए एक दृढ़ सैद्धांतिक आधार और तकनीकी पृष्ठभूमि प्रदान करता है। --- **समग्र मूल्यांकन**: यह एक उच्च-गुणवत्ता वाला इंजीनियरिंग अनुप्रयोग पेपर है, जो सफलतापूर्वक उन्नत नियंत्रण सिद्धांत को वास्तविक औद्योगिक समस्याओं पर लागू करता है, सैद्धांतिक कठोरता और व्यावहारिक मूल्य के बीच अच्छा संतुलन प्राप्त करता है। पेपर का योगदान न केवल तकनीकी नवाचार में है, बल्कि अर्धचालक विनिर्माण जैसे महत्वपूर्ण उद्योग के लिए व्यावहारिक समाधान प्रदान करने में भी है।