Curvature effects on the regimes of the lateral van der Waals force
Costa, Queiroz, Alves
Recently, it has been shown that, under the action of the lateral van der Waals (vdW) force due to a perfectly conducting corrugated plane, a neutral anisotropic polarizable particle in vacuum can be attracted not only to the nearest corrugation peak but also to a valley or an intermediate point between a peak and a valley, with such behaviors called the peak, valley, and intermediate regimes, respectively. In the present paper, we calculate the vdW interaction between a polarizable particle and a grounded conducting corrugated cylinder, and investigate how the effects of the curvature of the cylinder affect the occurrence of the mentioned regimes.
academic
Effetti di curvatura sui regimi della forza laterale di van der Waals
Ricerche recenti hanno dimostrato che particelle neutre anisotrope polarizzabili nel vuoto, sottoposte alla forza laterale di van der Waals generata da piani ondulati perfettamente conduttori, non solo possono essere attratte verso il picco ondulato più vicino, ma anche verso la valle ondulata o verso punti intermedi tra picchi e valli. Questi comportamenti sono rispettivamente denominati regimi di picco, valle e intermedio. Il presente articolo calcola l'interazione di van der Waals tra una particella polarizzabile e un cilindro ondulato conduttore messo a terra, e studia come gli effetti di curvatura del cilindro influenzano l'emergenza dei suddetti regimi.
Complessità della forza laterale di van der Waals: La ricerca tradizionale si è principalmente concentrata sulle interazioni verticali tra particelle e superfici piane, mentre lo studio delle forze laterali è rimasto relativamente limitato. Recentemente è stato scoperto che su superfici ondulate, le posizioni di equilibrio stabile di una particella possono trovarsi in corrispondenza di picchi, valli o posizioni intermedie.
Importanza degli effetti geometrici: La ricerca esistente si concentra principalmente su geometrie piane, ma le superfici nelle applicazioni pratiche presentano spesso curvatura. Comprendere come la curvatura influenzi la forza laterale di van der Waals è di importanza cruciale per la nanomanipolazione e l'ingegneria delle superfici.
Sfide nel calcolo teorico: È necessario sviluppare metodi di calcolo analitici che vadano oltre l'approssimazione della forza prossimale (PFA) per descrivere accuratamente le interazioni in geometrie curve.
Estensione del Metodo Teorico: Generalizzazione del metodo di calcolo perturbativo di Clinton et al. alla geometria cilindrica, stabilendo la soluzione della funzione di Green per una carica puntiforme in presenza di un cilindro ondulato conduttore messo a terra.
Nuove Formule di Interazione: Derivazione di espressioni analitiche per l'interazione di van der Waals tra una particella polarizzabile e un cilindro ondulato.
Analisi degli Effetti di Curvatura: Studio sistematico di come la curvatura del cilindro influenzi l'emergenza dei regimi di picco, valle e intermedio, rivelando che la curvatura generalmente inibisce l'emergenza dei regimi di valle e intermedio.
Scoperta della Dipendenza Direzionale: Rivelazione di come la direzione dell'ondulazione (lungo l'asse z o φ) influenzi diversamente i meccanismi degli effetti di curvatura.
Studio dell'interazione di van der Waals di una particella polarizzabile in prossimità di un cilindro ondulato conduttore messo a terra, con particolare attenzione ai diversi stati di equilibrio generati dalla forza laterale e alla loro dipendenza dalla curvatura della superficie.
Per un cilindro di raggio a, la cui superficie è descritta da ρ = a + εh(φ,z), dove h(φ,z) è la funzione di ondulazione e ε è il parametro perturbativo, la funzione di Green si sviluppa come:
G(r,r') = G^(0)(r,r') + Σ(n=1 to ∞) ε^n G^(n)(r,r')
Utilizzando il metodo della separazione delle variabili in coordinate cilindriche, la funzione di Green è espressa come serie di funzioni di Bessel modificate:
Caso di carica puntiforme: La forza laterale attrae sempre la particella verso il picco dell'ondulazione; la curvatura indebolisce l'intensità dell'interazione
Regime di valle: La curvatura ha un effetto minore sull'emergenza del regime di valle
Regime intermedio: La curvatura inibisce il regime intermedio a distanze brevi, mentre ne aumenta l'effetto a distanze maggiori
Effetto di amplificazione: Diversamente dalle ondulazioni nella direzione z, la forza laterale delle ondulazioni nella direzione φ è amplificata dalla curvatura
Inibizione del regime di valle: La curvatura inibisce significativamente l'emergenza del regime di valle
Accoppiamento strutturale: La curvatura influenza direttamente la struttura dell'ondulazione stessa
Effetto di Inibizione Universale della Curvatura: La curvatura della superficie generalmente inibisce l'emergenza dei regimi di valle e intermedio, favorendo la stabilità del regime di picco.
Dipendenza Direzionale: La direzione dell'ondulazione determina la manifestazione specifica degli effetti di curvatura:
Ondulazioni nella direzione z: effetti di curvatura relativamente deboli
Ondulazioni nella direzione φ: forte accoppiamento tra curvatura e struttura dell'ondulazione
Effetto della Scala di Distanza: Quando d ≪ a gli effetti di curvatura scompaiono; quando d ~ a gli effetti di curvatura sono più significativi.
Approssimazione Perturbativa: Considerazione solo della correzione perturbativa del primo ordine, potenzialmente insufficiente per ondulazioni di grande ampiezza
Approssimazione Elettrostatica: Mancata considerazione degli effetti di ritardo del campo elettromagnetico
Geometria Specifica: Studio limitato alla geometria cilindrica; altre geometrie curve rimangono da esplorare
1 E. C. M. Nogueira, L. Queiroz, and D. T. Alves, "Peak, valley, and intermediate regimes in the lateral van der Waals force," Phys. Rev. A 104, 012816 (2021).
2 W. L. Clinton, M. A. Esrick, and W. S. Sacks, "Image potential for nonplanar metal surfaces," Phys. Rev. B 31, 7540 (1985).
3 C. Eberlein and R. Zietal, "Force on a neutral atom near conducting microstructures," Phys. Rev. A 75, 032516 (2007).
Valutazione Complessiva: Si tratta di un articolo di fisica teorica di alta qualità che fornisce importanti contributi nel campo interdisciplinare tra la forza di van der Waals e la scienza delle superfici. La derivazione teorica è rigorosa e i risultati hanno significato fisico importante, fornendo nuovi strumenti teorici per comprendere e controllare le interazioni superficiali a scala nanometrica.