2025-11-21T14:40:15.746352

Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems

Subramanian, Moest, Paarhuis
This paper presents a partial state-feedback reduced-order switching predictive model designed to support the next-generation lithography roadmap. The proposed approach addresses the trade-off between increasing the number of measurements to improve overlay accuracy and the resulting challenges, including higher measurement noise, reduced throughput and overlay/placement errors under uncertain operating conditions.. By minimizing (die-) placement errors and reducing unnecessary measurements, the method enhances system performance and throughput. This solution employs a streamlined model with adaptive switching logic to manage time-varying uncertainties induced by fluctuating operating conditions. The methodology is implemented on a state-of-the-art lithographic scanner to mitigate the spatial-temporal dynamics of reticle heating, serving as a representative industrial application. Reticle heating, which worsens with increased throughput, introduces spatial-temporal distortions that directly degrade die placement accuracy. Experimental results demonstrate significant improvements: placement errors are reduced by a factor of $2-3$x, and throughput is improved by $0.3$seconds per wafer. Importantly, the method accounts for the fact that increased throughput can exacerbate reticle heating, which directly impacts overlay performance. By actively compensating for these thermomechanical effects, the proposed approach ensures that overlay accuracy is maintained or improved -- even under increased throughput conditions -- highlighting its potential for broader application in advanced lithographic systems, particularly in thermal and vibration control.
academic

次世代光学リソグラフィシステムのための部分状態フィードバック低次元切り替え予測モデル

基本情報

  • 論文ID: 2402.13928
  • タイトル: Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems
  • 著者: Raaja Ganapathy Subramanian（アイントホーフェン工科大学 & ASML NV）、Barry Moest（ASML NV）、Bart Paarhuis（ASML NV）
  • 分類: math.OC（数学最適化および制御）
  • 発表予定: Control Engineering Practice誌へのプレプリント投稿、2025年10月15日
  • 論文リンク: https://arxiv.org/abs/2402.13928

要旨

本論文は、次世代リソグラフィ技術ロードマップをサポートするための部分状態フィードバック低次元切り替え予測モデルを提案している。本手法は、測定数の増加によるオーバーレイ精度向上と、それに伴う課題（より高い測定ノイズ、スループット低下、不確実な操作条件下でのオーバーレイ/配置誤差）との間のトレードオフに対処している。チップ配置誤差の最小化と不要な測定の削減を通じて、本手法はシステム性能とスループットを向上させる。本ソリューションは、変動する操作条件に起因する時変不確実性を管理するための適応的切り替えロジックを備えた簡潔なモデルを採用している。本手法は最先端のリソグラフィスキャナー上に実装され、代表的な産業応用としてレチクル加熱の時空間動力学を緩和する。レチクル加熱はスループット増加に伴い悪化し、時空間歪みを導入し、チップ配置精度を直接低下させる。実験結果は顕著な改善を示している：配置誤差は2～3倍削減され、スループットはウェハーあたり0.3秒向上している。

研究背景と動機

問題背景

  1. リソグラフィ技術の重要性：リソグラフィは半導体製造プロセスにおいて最も重要な技術であり、チップ素子の製造スケールを決定し、集積回路の生産品質に直接影響する。
  2. 技術的課題：
    • 最小特性寸法が3nmから500nmの範囲で、サブナノメートル精度が必要
    • 高スループット要求と高精度要求の矛盾
    • 時空間動力学的挙動がシステム性能に及ぼす影響
  3. 既存手法の限界：
    • シミュレーション仮定と実時間システム挙動の不一致
    • 不確実性と外部干渉に対する感度
    • 実時間操作における全体的な閉ループ安定性の確保の困難さ
    • 物理モデリング精度とモデル簡潔性のトレードオフ
    • モジュール性、スケーラビリティ、実装コストの制限

研究動機

本論文は、理論的制御概念とリソグラフィシステムの実際の実装の間のギャップを埋めることを目指し、スループットとオーバーレイ性能を維持しながら、部分状態フィードバック低次元切り替え予測制御手法を提案している。

核心的貢献

  1. 低次元モデル設計：標称大規模システム動力学（有限要素モデル）から導出された低次元線形時不変モデルの使用を提案し、重要な時空間動力学の選択的分離を通じて、モデル忠実度を損なうことなく計算効率を確保する。
  2. 適応的切り替えメカニズム：物理効果に起因する不確実性に適応し、ロバスト性を向上させるための切り替えロジックメカニズムを導入する。
  3. 安定性保証：提案された制御戦略が全体的一様最終有界漸近安定性（GUAS）を確保することを証明し、非線形システムの小ゲイン定理によってサポートされている。
  4. 産業検証：最先端のリソグラフィシステム上に実装および検証され、レチクル加熱に起因する時空間歪みの緩和に焦点を当てている。

方法論の詳細

タスク定義

入力：

  • システム状態 x∈Rnx \in \mathbb{R}^n（予測される完全なレチクル変形）
  • 外部入力 ue∈Rmu_e \in \mathbb{R}^m（熱源）
  • スパースセンサーデータ y∈Rqy \in \mathbb{R}^q

出力：

  • 配置誤差に関連する出力 z∈Rpz \in \mathbb{R}^p

制約条件：

  1. 予測されたミスアライメントは有界に保たれる：∥z∥≤ε\|z\| \leq \varepsilon（サブナノメートル級）
  2. 測定時間の削減、特定のマーク集合の測定の選択的スキップ

モデルアーキテクチャ

状態空間表現

システムの状態空間表現は以下の通りである：

\dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e + B_f u_f \\ u_f = \Gamma(.)y \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$$ ここで： - $x_i$：内部変形状態 - $u_e$：外部加熱プロファイル - $u_f$：アライメントセンサーからのフィードバック信号 - $\Gamma(.)$：スパースフィードバック測定を適切な密集配置に変換する関数 - $C_i$：$x_i$から$u_i$への出力マッピング #### 4段階設計手法 **ステップ1 - スケジューラー統合と閉ループフィードバック**： スケジューラー$\Phi$は以下のように定義される： $$\Phi = \{M_i | I \in R_i, \forall i \in \mathbb{Z}\}$$ ここで$I \in \{y, u_e, u_\Delta\}$は履歴情報集合を表す。 **ステップ2 - 標称低次元モデル**： Krylov部分空間モーメントマッチング法を用いたパラメータ化低次元化： $$M_i := \begin{cases} \dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$$ **ステップ3 - 部分フィードバック統合**： フィードバック入力チャネル$B_f$を明示的に導入することにより、部分状態フィードバックを低次元モデルに統合する。 **ステップ4 - 不確実性処理**： 中心化手法を使用してモデルを以下のように表現する： $$\hat{P}(\Phi|I) = M_n + M_\Delta = M_n + \Delta_m(\Phi|I)$$ ### 技術的革新点 1. **履歴情報駆動の切り替え戦略**：フィードバック信号の振幅のみに基づく可変ゲイン制御とは異なり、本手法は履歴データ$I$を使用してモデル選択を指導する。 2. **物理的解釈可能性の維持**：Krylov部分空間モーメントマッチング法を通じて、低次元モデルの元の物理的解釈を維持する。 3. **Lur'e型システムフレームワーク**：システムをLur'e型システムに変換し、線形動力学部分と非線形/不確実部分を結合する。 ## 実験設定 ### 実験プラットフォーム - **装置**：ASML Twinscan最先端リソグラフィスキャナー - **応用シナリオ**：レチクル加熱緩和 - **テスト条件**：2バッチ、各バッチ16枚のウェハー ### 評価指標 1. **配置誤差**：x-y方向のオーバーレイ配置誤差 2. **スループット向上**：ウェハーあたりの時間削減 3. **安定性**：異なる操作条件下での性能一貫性 ### 比較手法 1. **従来手法**：センサーベースの現在の標準手法 2. **線形手法**：標称モデル$M_n$のみを使用した線形版 ### 実装詳細 - 標称および不確実レチクル加熱モデルを記述するために3つのモーメントを使用 - エッジアライメントマークをスキップし、上部-下部アライメントマークのみを使用 - 各測定で約0.3秒/ウェハーを節約 ## 実験結果 ### 主要結果 1. **配置誤差の改善**： - 従来手法と比較して、x-y方向の配置誤差は2～3倍削減 - 最初の2枚のウェハーのx-y方向性能は2倍向上 - 標称および不確実条件下で安定した改善精度を維持 2. **スループット向上**： - ウェハーあたり0.3秒節約 - 1時間あたり最大7枚のウェハーのスループット増加が可能 3. **ロバスト性検証**： - 線形手法は不確実条件下で性能が3倍低下 - 提案手法は異なる画像領域で一貫した性能を維持 ### 異なる画像領域での検証 より小さい露光領域での実験では： - 提案手法は標称および不確実条件下で3倍の性能向上 - 線形手法は2～3倍の性能低下 - 手法のロバスト性と適応性を検証 ### 安定性分析 小ゲイン定理を通じて全体的一様最終有界漸近安定性（GUAS）を証明し、以下を満たす： - レチクル加熱物理特性は有界動力学を確保 - 標称モデルと不確実モデルの両方が安定性条件を満たす - 平衡点$x^*$（ここで$\|z\| = 0$）はGUASである ## 関連研究 ### リソグラフィシステム制御 - 従来の線形予測制御手法は「ウォーターベッド効果」に制限される - 非線形手法には可変ゲイン制御、フィルター、切り替えコントローラーが含まれる - 既存手法は空間-時間動力学を無視することが多い ### モデル低次元化技術 - 平衡截断、Krylov部分空間法、固有直交分解（POD） - 既存手法は次元を低下させるが物理的解釈可能性を失う - 本論文の手法は計算効率を実現しながら物理的解釈を維持 ### 切り替えシステム制御 - 履歴情報に基づく切り替え戦略 - イベント駆動型制御手法 - Lur'e型システム安定性理論 ## 結論と考察 ### 主要な結論 1. 部分状態フィードバック低次元切り替え予測モデルの開発に成功 2. 精度とスループットの同時向上を実現 3. 不確実な操作条件下でのロバスト性を検証 4. 理論的安定性保証を提供 ### 限界 1. 手法の適用可能性は特定の物理システム特性に依存 2. 切り替えロジックの設計には領域専門知識が必要 3. モデル低次元化は特定の極端な条件下で精度に影響を与える可能性 ### 今後の方向性 1. **統一予測フレームワーク**：システム全体の空間的および時間的変化への拡張 2. **インテリジェント測定最適化**：予測、学習、インテリジェンスを統合して不要な測定を削減 3. **実用的仮定の検証**：理論的概念と実際の応用の間のギャップを縮小 ## 深層評価 ### 強み 1. **産業関連性が高い**：半導体製造における実際の問題に直接対処 2. **理論的基礎が堅実**：厳密な安定性分析を提供 3. **実験検証が充分**：実際の産業システムで効果を検証 4. **手法の革新性**：低次元モデリング、切り替え制御、部分フィードバックを組み合わせた新規手法 5. **実用価値が高い**：精度とスループットを同時に向上させ、直接的な経済価値を有する ### 不足点 1. **応用の限定性**：主にレチクル加熱問題に焦点を当てており、他の応用への汎化性は検証待ち 2. **複雑性管理**：切り替えロジックの設計と調整には大量の専門知識が必要な可能性 3. **比較実験**：他の先進制御手法との深入りした比較が不足 4. **長期安定性**：長期運用中の性能劣化について十分に議論されていない ### 影響力 1. **学術的価値**：時空間システム制御に新しい理論的フレームワークを提供 2. **産業的価値**：数十億ドル規模の半導体装置に直接応用 3. **技術推進**：他の精密製造システムへの手法の拡張が可能 4. **再現性**：明確な実装ステップと理論的基礎を提供 ### 適用シナリオ 1. **精密製造システム**：サブナノメートル精度が必要な製造プロセス 2. **熱管理応用**：熱変形制御を伴うシステム 3. **高スループット要求**：精度を維持しながら効率を向上させる必要があるシナリオ 4. **不確実環境**：操作条件が頻繁に変化する産業システム ## 参考文献 本論文は制御理論、リソグラフィ技術、モデル低次元化、システム同定など複数の分野における重要な研究を含む45篇の関連文献を引用しており、研究に堅実な理論的基礎と技術的背景を提供している。 --- **総合評価**：これは高品質の工学応用論文であり、先進的制御理論を実際の産業問題に成功裏に応用し、理論的厳密性と実用価値の間で良好なバランスを達成している。本論文の貢献は技術革新にとどまらず、半導体製造という重要産業に対して実行可能な解決策を提供することにある。