2025-11-21T14:40:15.746352

Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems

Subramanian, Moest, Paarhuis
This paper presents a partial state-feedback reduced-order switching predictive model designed to support the next-generation lithography roadmap. The proposed approach addresses the trade-off between increasing the number of measurements to improve overlay accuracy and the resulting challenges, including higher measurement noise, reduced throughput and overlay/placement errors under uncertain operating conditions.. By minimizing (die-) placement errors and reducing unnecessary measurements, the method enhances system performance and throughput. This solution employs a streamlined model with adaptive switching logic to manage time-varying uncertainties induced by fluctuating operating conditions. The methodology is implemented on a state-of-the-art lithographic scanner to mitigate the spatial-temporal dynamics of reticle heating, serving as a representative industrial application. Reticle heating, which worsens with increased throughput, introduces spatial-temporal distortions that directly degrade die placement accuracy. Experimental results demonstrate significant improvements: placement errors are reduced by a factor of $2-3$x, and throughput is improved by $0.3$seconds per wafer. Importantly, the method accounts for the fact that increased throughput can exacerbate reticle heating, which directly impacts overlay performance. By actively compensating for these thermomechanical effects, the proposed approach ensures that overlay accuracy is maintained or improved -- even under increased throughput conditions -- highlighting its potential for broader application in advanced lithographic systems, particularly in thermal and vibration control.
academic

차세대 광학 리소그래피 시스템을 위한 부분 상태 피드백 축소 차수 전환 예측 모델

기본 정보

  • 논문 ID: 2402.13928
  • 제목: Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems
  • 저자: Raaja Ganapathy Subramanian (에인트호벤 공과대학교 & ASML NV), Barry Moest (ASML NV), Bart Paarhuis (ASML NV)
  • 분류: math.OC (수학 최적화 및 제어)
  • 발표 시간: Control Engineering Practice 사전 인쇄본 제출, 2025년 10월 15일
  • 논문 링크: https://arxiv.org/abs/2402.13928

초록

본 논문은 차세대 리소그래피 기술 로드맵을 지원하기 위한 부분 상태 피드백 축소 차수 전환 예측 모델을 제안한다. 이 방법은 측정 수량 증가로 인한 오버레이 정확도 향상과 이로 인한 과제들(높은 측정 잡음, 감소된 생산성, 불확실한 운영 조건 하에서의 오버레이/배치 오류) 사이의 트레이드오프를 해결한다. 칩 배치 오류를 최소화하고 불필요한 측정을 줄임으로써, 이 방법은 시스템 성능과 생산성을 향상시킨다. 이 솔루션은 변동하는 운영 조건으로 인한 시변 불확실성을 관리하기 위해 적응형 전환 로직을 갖춘 축소 모델을 채택한다. 이 방법은 최첨단 리소그래피 스캐너에서 구현되어 마스크 스테이지 가열의 시공간 동역학을 완화하며, 이는 대표적인 산업 응용이다. 마스크 스테이지 가열은 생산성 증가에 따라 악화되어 시공간 왜곡을 도입하고, 칩 배치 정확도를 직접 감소시킨다. 실험 결과는 현저한 개선을 보여준다: 배치 오류 2-3배 감소, 웨이퍼당 생산성 0.3초 증가.

연구 배경 및 동기

문제 배경

  1. 리소그래피 기술의 중요성: 리소그래피는 반도체 제조 공정에서 가장 중요한 기술이며, 칩 소자의 제조 규모를 결정하고 집적회로 생산 품질에 직접 영향을 미친다.
  2. 기술적 과제:
    • 최소 특성 크기 3nm에서 500nm까지, 서브나노미터 정확도 요구
    • 높은 생산성 요구와 높은 정확도 요구 사이의 모순
    • 시공간 동역학 거동이 시스템 성능에 미치는 영향
  3. 기존 방법의 한계:
    • 시뮬레이션 가정과 실시간 시스템 거동의 불일치
    • 불확실성 및 외부 간섭에 대한 민감성
    • 실시간 운영에서 전역 폐루프 안정성 보장의 어려움
    • 물리적 모델링 정확도와 모델 단순성 사이의 트레이드오프
    • 모듈화, 확장성 및 구현 비용의 제한

연구 동기

본 논문은 이론적 제어 개념과 리소그래피 시스템의 실제 구현 사이의 격차를 해소하고, 생산성과 오버레이 성능을 유지하면서 부분 상태 피드백, 축소 차수 전환 예측 제어 방법을 제안하는 것을 목표로 한다.

핵심 기여

  1. 축소 차수 모델 설계: 명목 대규모 시스템 동역학(유한 요소 모델)에서 도출된 축소 차수 선형 시불변 모델 사용을 제안하며, 선택적 분리를 통해 주요 시공간 동역학을 보장하면서 계산 효율성을 확보하고 모델 충실도를 손상시키지 않는다.
  2. 적응형 전환 메커니즘: 물리적 효과로 인한 불확실성에 적응하는 전환 로직 메커니즘을 도입하여 견고성을 향상시킨다.
  3. 안정성 보장: 제안된 제어 전략이 전역 균일 최종 유계 점근 안정성(GUAS)을 보장함을 증명하며, 비선형 시스템 소증가 정리로 지원된다.
  4. 산업 검증: 최첨단 리소그래피 시스템에서 구현 및 검증되며, 마스크 스테이지 가열로 인한 시공간 왜곡 완화에 초점을 맞춘다.

방법 상세 설명

작업 정의

입력:

  • 시스템 상태 x∈Rnx \in \mathbb{R}^n (예측된 완전한 마스크 스테이지 변형)
  • 외부 입력 ue∈Rmu_e \in \mathbb{R}^m (열원)
  • 희소 센서 데이터 y∈Rqy \in \mathbb{R}^q

출력:

  • 배치 오류와 관련된 출력 z∈Rpz \in \mathbb{R}^p

제약 조건:

  1. 예측된 정렬 오류가 유계로 유지: ∥z∥≤ε\|z\| \leq \varepsilon (서브나노미터 수준)
  2. 측정 시간 감소, 특정 마크 세트의 측정 선택적 건너뛰기

모델 아키텍처

상태 공간 표현

시스템의 상태 공간 표현은 다음과 같다:

\dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e + B_f u_f \\ u_f = \Gamma(.)y \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$$ 여기서: - $x_i$: 내부 변형 상태 - $u_e$: 외부 가열 프로파일 - $u_f$: 정렬 센서로부터의 피드백 신호 - $\Gamma(.)$: 희소 피드백 측정을 적절한 밀집 배치로 변환하는 함수 - $C_i$: $x_i$에서 $u_i$로의 출력 매핑 #### 4단계 설계 방법 **단계 1 - 스케줄러 통합 및 폐루프 피드백**: 스케줄러 $\Phi$는 다음과 같이 정의된다: $$\Phi = \{M_i | I \in R_i, \forall i \in \mathbb{Z}\}$$ 여기서 $I \in \{y, u_e, u_\Delta\}$는 이력 정보 세트를 나타낸다. **단계 2 - 명목 축소 차수 모델**: Krylov 모멘트 매칭 방법을 사용한 매개변수화 축소: $$M_i := \begin{cases} \dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$$ **단계 3 - 부분 피드백 통합**: 피드백 입력 채널 $B_f$를 명시적으로 도입하여 부분 상태 피드백을 축소 차수 모델에 통합한다. **단계 4 - 불확실성 처리**: 중심화 방법을 사용하여 모델을 다음과 같이 표현한다: $$\hat{P}(\Phi|I) = M_n + M_\Delta = M_n + \Delta_m(\Phi|I)$$ ### 기술 혁신 포인트 1. **이력 정보 기반 전환 전략**: 피드백 신호 크기만을 기반으로 하는 변이득 제어와 달리, 본 방법은 이력 데이터 $I$를 사용하여 모델 선택을 지도한다. 2. **물리적 해석 가능성 유지**: Krylov 모멘트 매칭 방법을 통해 축소 차수 모델의 원래 물리적 해석을 유지한다. 3. **Lur'e형 시스템 프레임워크**: 시스템을 선형 동역학 부분과 비선형/불확실 부분을 결합한 Lur'e형 시스템으로 변환한다. ## 실험 설정 ### 실험 플랫폼 - **장비**: ASML Twinscan 최첨단 리소그래피 스캐너 - **응용 시나리오**: 마스크 스테이지 가열 완화 - **테스트 조건**: 2개 배치, 배치당 16개 웨이퍼 ### 평가 지표 1. **배치 오류**: x-y 방향의 오버레이 배치 오류 2. **생산성 향상**: 웨이퍼당 시간 절감 3. **안정성**: 다양한 운영 조건 하에서의 성능 일관성 ### 비교 방법 1. **전통적 방법**: 센서 기반 현재 표준 방법 2. **선형 방법**: 명목 모델 $M_n$만 사용하는 선형 버전 ### 구현 세부 사항 - 3개 모멘트를 사용하여 명목 및 불확실 마스크 스테이지 가열 모델 설명 - 가장자리 정렬 마크 건너뛰기, 상단-하단 정렬 마크만 사용 - 측정당 약 0.3초/웨이퍼 절감 ## 실험 결과 ### 주요 결과 1. **배치 오류 개선**: - 전통적 방법 대비 x-y 방향 배치 오류 2-3배 감소 - 처음 2개 웨이퍼의 x-y 방향 성능 2배 향상 - 명목 및 불확실 조건 모두에서 안정적이고 개선된 정확도 유지 2. **생산성 향상**: - 웨이퍼당 0.3초 절감 - 시간당 최대 7개 웨이퍼의 생산성 증가 가능 3. **견고성 검증**: - 선형 방법은 불확실 조건에서 성능 3배 저하 - 제안된 방법은 다양한 이미지 영역에서 일관된 성능 유지 ### 다양한 이미지 영역 검증 더 작은 노광 영역의 실험에서: - 제안된 방법은 명목 및 불확실 조건에서 성능 3배 향상 - 선형 방법 성능 2-3배 저하 - 방법의 견고성 및 적응성 검증 ### 안정성 분석 소증가 정리를 통해 전역 균일 최종 유계 점근 안정성(GUAS)을 증명하며, 다음을 만족한다: - 마스크 스테이지 가열 물리적 특성이 유계 동역학 보장 - 명목 모델 및 불확실 모델 모두 안정성 조건 만족 - 평형점 $x^*$ (여기서 $\|z\| = 0$)는 GUAS ## 관련 연구 ### 리소그래피 시스템 제어 - 전통적 선형 예측 제어 방법은 "워터베드 효과"로 제한됨 - 비선형 방법에는 변이득 제어, 필터링 및 전환 제어기 포함 - 기존 방법은 종종 공간-시간 동역학을 무시함 ### 모델 축소 기술 - 균형 절단, Krylov 부분공간 방법, 고유 직교 분해(POD) - 기존 방법은 차원을 줄이지만 물리적 해석 가능성을 잃음 - 본 논문 방법은 계산 효율성을 달성하면서 물리적 해석 유지 ### 전환 시스템 제어 - 이력 정보 기반 전환 전략 - 이벤트 기반 제어 방법 - Lur'e 시스템 안정성 이론 ## 결론 및 논의 ### 주요 결론 1. 부분 상태 피드백 축소 차수 전환 예측 모델 성공적 개발 2. 정확도와 생산성의 동시 향상 달성 3. 불확실한 운영 조건 하에서의 견고성 검증 4. 이론적 안정성 보장 제공 ### 한계 1. 방법의 적용 가능성은 특정 물리적 시스템 특성에 의존 2. 전환 로직 설계는 영역 전문 지식 필요 3. 모델 축소는 특정 극단적 조건에서 정확도에 영향을 미칠 수 있음 ### 향후 방향 1. **통합 예측 프레임워크**: 전체 시스템의 공간 및 시간 변화로 확장 2. **지능형 측정 최적화**: 불필요한 측정을 줄이기 위해 예측, 학습 및 지능 통합 3. **실용적 가정 검증**: 이론적 개념과 실제 응용 사이의 격차 축소 ## 심층 평가 ### 장점 1. **산업 관련성 강함**: 반도체 제조의 실제 문제 직접 해결 2. **견고한 이론적 기초**: 엄격한 안정성 분석 제공 3. **충분한 실험 검증**: 실제 산업 시스템에서 효과 검증 4. **방법 혁신성**: 축소 차수 모델링, 전환 제어 및 부분 피드백 결합의 새로운 방법 5. **높은 실용 가치**: 정확도와 생산성 동시 향상, 직접적 경제 가치 보유 ### 부족한 점 1. **응용 제한성**: 주로 마스크 스테이지 가열 문제에 초점, 다른 응용의 일반화 가능성 미검증 2. **복잡성 관리**: 전환 로직 설계 및 조정은 상당한 전문 지식 필요 가능 3. **비교 실험**: 다른 고급 제어 방법과의 심층 비교 부족 4. **장기 안정성**: 장기 운영 중 성능 저하 문제 충분히 논의되지 않음 ### 영향력 1. **학술적 가치**: 시공간 시스템 제어를 위한 새로운 이론적 프레임워크 제공 2. **산업적 가치**: 수십억 달러 규모의 반도체 장비에 직접 응용 3. **기술 확산**: 방법은 다른 정밀 제조 시스템으로 확장 가능 4. **재현 가능성**: 명확한 구현 단계 및 이론적 기초 제공 ### 적용 시나리오 1. **정밀 제조 시스템**: 서브나노미터 정확도가 필요한 제조 공정 2. **열 관리 응용**: 열 변형 제어가 포함된 시스템 3. **높은 생산성 요구**: 정확도 유지 동시에 효율성 향상이 필요한 시나리오 4. **불확실 환경**: 운영 조건이 자주 변하는 산업 시스템 ## 참고 문헌 논문은 제어 이론, 리소그래피 기술, 모델 축소 및 시스템 식별 등 여러 분야의 중요한 작업을 포함하는 45개의 관련 문헌을 인용하며, 연구에 견고한 이론적 기초 및 기술적 배경을 제공한다. --- **종합 평가**: 이는 고품질의 공학 응용 논문으로, 선진 제어 이론을 실제 산업 문제에 성공적으로 적용하며, 이론적 엄밀성과 실용적 가치 사이에서 좋은 균형을 달성했다. 논문의 기여는 기술 혁신뿐만 아니라 반도체 제조라는 핵심 산업에 실질적으로 실행 가능한 솔루션을 제공하는 데 있다.