Recent advances in hydrogen lithography on silicon surfaces now enable the fabrication of complex and error-free atom-scale circuitry. The structure of atomic wires, the most basic and common circuit elements, plays a crucial role at this scale, as the exact position of each atom matters. As such, the characterization of atomic wire geometries is critical for identifying the most effective configurations. In this study, we employed low-temperature (4.5 K) scanning tunneling microscopy (STM) and spectroscopy (STS) to systematically fabricate and characterize six planar wire configurations made up of silicon dangling bonds (DBs) on the H-Si(100) surface. Crucially, the characterization was performed at the same location and under identical tip conditions, thereby eliminating artifacts due to the local environment to reveal true electronic differences among the line configurations. By performing dI/dV line spectroscopy on each wire, we reveal their local density of states (LDOS) and demonstrate how small variations in wire geometry affect orbital hybridization and induce the emergence of new electronic states. Complementarily, we deploy density functional theory (DFT) and non-equilibrium Green's functions to compute the LDOS and evaluate transmission coefficients for the most promising wire geometries. Our results indicate that dimer and wider wires exhibit multiple discrete mid-gap electronic states which could be exploited for signal transport or as custom quantum dots. Furthermore, wider wires benefit from additional current pathways and exhibit increased transmission, while also demonstrating enhanced immunity to hydrogen defects.
academic- ๋
ผ๋ฌธ ID: 2507.02123
- ์ ๋ชฉ: Engineering Quantum Wire States for Atom Scale Circuitry
- ์ ์: Max Yuan, Lucian Livadaru, Roshan Achal, Jason Pitters, Furkan Altincicek, Robert Wolkow
- ๋ถ๋ฅ: cond-mat.mtrl-sci cond-mat.mes-hall
- ๋ฐํ ์๊ฐ: 2025๋
- ๋
ผ๋ฌธ ๋งํฌ: https://arxiv.org/abs/2507.02123
๋ณธ ์ฐ๊ตฌ๋ ์์ ์๊ฐ ๊ธฐ์ ์ ์ด์ฉํ์ฌ ์ค๋ฆฌ์ฝ ํ๋ฉด์ ๋ณต์กํ๊ณ ๋ฌด๊ฒฐํ ์์ ๊ท๋ชจ ํ๋ก๋ฅผ ์ ์ํ๋ค. ์ฐ๊ตฌํ์ ์ ์จ(4.5 K) ์ฃผ์ฌ ํฐ๋๋ง ํ๋ฏธ๊ฒฝ(STM) ๋ฐ ์ฃผ์ฌ ํฐ๋๋ง ๋ถ๊ด(STS) ์์คํ
์ ์ฌ์ฉํ์ฌ ์ค๋ฆฌ์ฝ ๋๊ธ๋ง ๋ณธ๋(DB)๋ก ๊ตฌ์ฑ๋ 6๊ฐ์ง ํ๋ฉด ์์ด์ด ๊ตฌ์ฑ์ ์ฒด๊ณ์ ์ผ๋ก ์ ์ํ๊ณ ํน์ฑํํ๋ค. ๋์ผํ ์์น์ ๋์ผํ ํ ์กฐ๊ฑด์์ ํน์ฑํ๋ฅผ ์ํํจ์ผ๋ก์จ ๊ตญ์ ํ๊ฒฝ์ ์ํฅ์ ์ ๊ฑฐํ๊ณ , ์๋ก ๋ค๋ฅธ ํ๋ก ๊ตฌ์ฑ์ ์ง์ ํ ์ ์์ ์ฐจ์ด๋ฅผ ๊ท๋ช
ํ๋ค. ์ฐ๊ตฌ ๊ฒฐ๊ณผ๋ ์ด๋์ฒด ๋ฐ ๋ ๋์ ์์ด์ด๊ฐ ์ ํธ ์ ์ก์ ์ฌ์ฉ๋๊ฑฐ๋ ๋ง์ถคํ ์์์ ์ผ๋ก ์์ฉํ ์ ์๋ ์ฌ๋ฌ ๊ฐ์ ์ด์ฐ ๋ฐด๋๊ฐญ ์ ์ ์ํ๋ฅผ ๋ํ๋์ ๋ณด์ฌ์ค๋ค.
- CMOS ๊ธฐ์ ์ ๋ณ๋ชฉ: ๊ธฐ์กด CMOS ์์๊ฐ ๋ฌผ๋ฆฌ์ ํ๊ณ์ ์ ๊ทผํ๊ณ ์์ผ๋ฉฐ, ์ ๋ ฅ ๋ฐ๋ ์ค์ผ์ผ๋ง ์คํจ๊ฐ ์ฑ๋ฅ ํฅ์์ ์ ํํจ
- ์์ ๊ท๋ชจ ํ๋ก์ ํ์์ฑ: CMOS๋ฅผ ์ด์ํ๋ ์ ์ค๋ฆฌ์ฝ ์๋ฃจ์
์ ๊ฐ๋ฐํ์ฌ ๋ ๋น ๋ฅด๊ณ ์ ์ ๋ ฅ ์์ ๊ตฌํ ํ์
- ์์ ์์ด์ด์ ๊ณผ์ : ์์ ๊ท๋ชจ ์์ด์ด๋ ํ๋ก์ ๊ธฐ๋ณธ ์์์ด์ง๋ง, ์์ ์ค์ผ์ผ์์ ๊ฐ ์์์ ์ ํํ ์์น๊ฐ ๋งค์ฐ ์ค์ํจ
- ๊ธฐ์กด ๊ธ์ ์ํธ ์ฐ๊ฒฐ์ ์์ ์ค์ผ์ผ์์ ์์ ์ ๋ฐ๋๋ฅผ ๋ฌ์ฑํ ์ ์์
- ํ์กดํ๋ ๋ํ๋ ์์ด์ด๋ ๊ณต๊ฐ์ ํ์ฅ์ด ๋๋ฌด ์ปค์ ๋ฐ์ง๋ ์์ ํ๋ก์ ๋ถ์ ํฉ
- ์์ ํ๋ก์ ์
์ถ๋ ฅ๊ณผ ์ผ์นํ๋ ๊ณ ๋๋ก ๊ณต๊ฐ ์ ํ๋ ์์ด์ด ํ์
- ์ฒด๊ณ์ ๊ธฐํํ์ ํน์ฑํ: ๋์ผํ ์์น์ ๋์ผํ ํ ์กฐ๊ฑด์์ 6๊ฐ์ง ์๋ก ๋ค๋ฅธ DB ์์ด์ด ๊ธฐํํ์ ๊ตฌ์ฑ์ ์ฒ์์ผ๋ก ์ฒด๊ณ์ ์ผ๋ก ํน์ฑํ
- ์ ์ ์ํ ์์ง๋์ด๋ง: ์์ด์ด ๊ธฐํํ์ ๋ณํ๊ฐ ๊ถค๋ ํผ์ฑํ์ ๋ฏธ์น๋ ์ํฅ๊ณผ ์๋ก์ด ์ ์ ์ํ์ ์ ๋ ๋ฐฉ์ ๊ท๋ช
- ์ ์ก ๊ณ์ ๊ณ์ฐ: DFT ๋ฐ ๋นํํ ๊ทธ๋ฆฐ ํจ์(NEGF)๋ฅผ ๊ฒฐํฉํ์ฌ ๊ฐ์ฅ ์ ๋งํ ์์ด์ด ๊ธฐํํ์ ์ ์ก ๊ณ์ ๊ณ์ฐ
- ๊ฒฐํจ ์ ํญ์ฑ ๋ถ์: ๋์ ์์ด์ด๊ฐ ๋ ๊ฐํ ์์ ๊ฒฐํจ ์ ํญ์ฑ๊ณผ ๋ค์ค ์ ๋ฅ ์ฑ๋์ ๊ฐ๋ ๊ฒ์ ์
์ฆ
- ์ค์ฉ์ฑ ํ๊ฐ: ์ ์ก ๋ฐ ์์์ ์์ฉ์ ์ํ ์์ด์ด ๊ธฐํํ ์ ํ ์ง์นจ ์ ๊ณต
์์ ์๊ฐ ๊ธฐ์ (Hydrogen Lithography):
- ์ด๋ฏธ์ธ STM ํ์ ์ฌ์ฉํ์ฌ ์ ํ์ ์ผ๋ก H ์์ ์ ๊ฑฐ
- ์ ๋ฅ ์ฃผ์
(1.9-2.3 V, 50ms ํ์ค)์ ํตํด ์ค๋ฆฌ์ฝ ๋๊ธ๋ง ๋ณธ๋ ๋
ธ์ถ
- ์ค๋ฅ DB๋ ์์ ๊ธฐ๋ฅํ ํ์ผ๋ก ์ ๊ฑฐ ๊ฐ๋ฅ
ํน์ฑํ ๋ฐฉ๋ฒ:
- 4.5 K ์ ์จ STM/STS ์ธก์
- dI/dV ๋ถ๊ด๋ฒ์ผ๋ก ๊ตญ์ ์ํ ๋ฐ๋(LDOS) ๊ท๋ช
- ์ผ์ ๋์ด dI/dV ์ด๋ฏธ์ง์ผ๋ก ํน์ ์๋์ง์์์ ์ ์ ๋ถํฌ ํ์
DFT ๊ณ์ฐ:
- AMS2024 ํ๋ก๊ทธ๋จ ๋ฐ GGA(PBE) ๊ตํ ์๊ด ๋ฒํจ์ ์ฌ์ฉ
- ์ ํ ํฌ๊ธฐ ์ค๋ฆฌ์ฝ ๋๋
ธํด๋ฌ์คํฐ ๋ชจ๋ธ(Si308H246)
- ์ฃผ๊ธฐ์ ์ฌ๋๋ธ ๋ชจ๋ธ(Si672H228)์ ํตํ ๊ณ ์ ๋ฐ ๊ณ์ฐ
์์ ์ ์ก ๊ณ์ฐ:
- NEGF-DFT ๋ฐฉ๋ฒ์ผ๋ก ์ํธ์ ๊ทผ์ฒ ์ ์ก ๊ณ์ ๊ณ์ฐ
- ์ ์ ๊ทน ์ ์ด์ด ์๋ ์ค๋ฆฌ์ฝ ๋๋
ธํด๋ฌ์คํฐ ๋ชจ๋ธ
- ํ๋ ์ ์ก ํน์ฑ ๋ฐ ๊ฒฐํจ ์ํฅ ํ๊ฐ
6๊ฐ์ง ์์ด์ด ๊ตฌ์ฑ ์ฐ๊ตฌ:
- ๋จ์์ ํญ ์ง์ ์์ด์ด
- ํฑ๋ ๋ชจ์ ์์ด์ด
- ์ด๋์ฒด ์์ด์ด
- 2H ๊ฐ๊ฒฉ์ด ์๋ ์ด๋์ฒด ์์ด์ด
- ์ด๋์ฒด + ๋จ์์ ํญ ์์ด์ด
- ์ด์ค ์ด๋์ฒด ์์ด์ด
- ๊ณ ๋น์ ๋ํ nํ Si(100), ์ ํญ๋ฅ 0.003-0.005 ฮฉยทcm
- 1250ยฐC ํ๋์ ์ ๋๋ง์ผ๋ก ์ฐํ์ธต ์ ๊ฑฐ ๋ฐ ์ฌ๊ฒฐ์ ํ
- ์์ ๋ถ์๊ธฐ์์ ์ฒญ์ H-Si(100) ํ๋ฉด ์ ์
- DB ์์ด์ด๋ฅผ ๋๋ ๋ฐด๋์์ ๋ถ๋ฆฌํ๊ธฐ ์ํด ๊ทผํ๋ฉด ๋ํ ๊ณ ๊ฐ ์์ญ ์์ฑ
- Scienta Omicron LT STM ์์คํ
, 4.5 K ์๋ ์จ๋
- ์ด๊ณ ์ง๊ณต ์กฐ๊ฑด: 2.5ร10โปยนยน Torr
- ํต์ผ๋ ํ ์ค์ ์ : 1.8 V, 50 pA (H-Si ์)
- ๋ก์ธ ์ฆํญ๊ธฐ: 700 Hz, 25 mV ๋ณ์กฐ ์ ์
- ๊ฐ ์์ด์ด๋น 100๊ฐ ์คํํธ๋ผ ์์ง, 2D LDOS ๋งต์ผ๋ก ์กฐํฉ
- ํ ์กฐ๊ฑด ์ผ๊ด์ฑ ๋ชจ๋ํฐ๋ง์ ์ํ ์ฐธ์กฐ DB
- ํ ๋๋ฆฌํํธ ๊ฐ์๋ฅผ ์ํด ์ผ์ ๋์ด ์ธก์ ์ 15๋ถ ์ด๋ด๋ก ์ ํ
- -1.50 V์์ ํ์ ํ ์ ํ ์ ์ด ํผํฌ ํ์
- ํ๊ด ๋ฐด๋๊ฐญ 2.58 eV (ํ ์ ๋ ๋ฐด๋ ๋ฒค๋ฉ์ผ๋ก ์ธํจ)
- ํ ํธ์์ ๋ฐ๋ฅธ ์ ํ ์ํ: ์์ฑ ์ํ(-1.80 V), ์์ฑ ์ํ(-1.30 V)
| ์์ด์ด ์ ํ | HOMO (V) | LUMO (V) | ๋ฐด๋๊ฐญ (eV) | ์ ์ก ๋ฑ๊ธ |
|---|
| ๋จ์์ ํญ | -1.35 | 0.60 | 1.91 | ๋ถ๋ |
| ํฑ๋ ๋ชจ์ | - | - | 2.55 | ๋ถ๋ |
| ์ด๋์ฒด | -1.50 | 0.30 | 1.80 | ์ํธ |
| ๊ฒฐํจ์ด ์๋ ์ด๋์ฒด | -1.50 | 0.23 | 1.73 | ์ค๊ฐ |
| ์ด์ค ์ด๋์ฒด | -1.90 | 0.15 | 1.67 | ์ต์ฐ์ |
์ํธ์ ์ ์ก ๊ณ์:
- ๊ธธ์ด 4 ๋จ์ผ ์ด๋์ฒด ์์ด์ด: T โ 0.67
- ๊ธธ์ด 8 ๋จ์ผ ์ด๋์ฒด ์์ด์ด: T โ 0.71 (ํ๋ ์ ์ก)
- ๊ธธ์ด 4 ์ด์ค ์ด๋์ฒด ์์ด์ด: T โ 1.48 (๊ฑฐ์ ์ ํ ์ค์ผ์ผ๋ง)
- ๊ธธ์ด 8 ์ด์ค ์ด๋์ฒด ์์ด์ด: T โ 1.32
๊ฒฐํจ ์ ํญ์ฑ:
- ๊ธธ์ด 4 ์์ด์ด์ 2H ๊ฒฐํจ ๋์
: ์ ์ก ์์ค 82%
- ๊ธธ์ด 8 ์์ด์ด์ 2H ๊ฒฐํจ ๋์
: ์ ์ก ์์ค 24%๋ง
- ์ด๋์ฒด ์ฐ์: ฯ ๊ฒฐํฉ ์ํธ์์ฉ์ด ๋ค์ค ์ด๋์ฒด ์ง๋จ ์ํ๋ฅผ ํ์ฑํ์ฌ ํ์ ํ ๋นํธ์ฌํ ๋ฌ์ฑ
- ํญ ํจ๊ณผ: ์ด์ค ์ด๋์ฒด ์์ด์ด๋ ํก๋ฐฉํฅ ๊ฒฐํฉ์ ๋ํ๋ด๋ฉฐ, ์ด๋์ฒด ํ ์ ์ฒด์ ๊ฑธ์น ์ ํธ ์ ํ ์ง์
- ๊ธฐ๊ณ์ ์์ ์ฑ: ๋์ ์์ด์ด๋ ๋์ ์ด๋์ฒด ๊ตฝํ์ ๊ฐ์์์ผ ๋ ๋ช
ํํ ๋ฐด๋๊ฐญ ์ํ ์ ๊ณต
- ์ํ ๋ฐ๋: ๋์ ์์ด์ด๋ ๋ ํ๋ถํ ์ด์ฐ ๋ฐด๋๊ฐญ ์๋์ง ์ค์ ์คํํธ๋ผ ๋ํ๋
- Englund ๋ฑ์ DFT ์ฐ๊ตฌ๋ ์ด๋์ฒด ์์ด์ด๊ฐ ๊ฐ์ฅ ์์ ์ ์ด๊ณ ์ ๋์ฑ์ด ์ฐ์ํจ์ ๋ณด์ฌ์ค
- Kepenekian ๋ฑ์ ํฑ๋ ์์ด์ด๊ฐ ๋ถ์์ ์ฑ์ ๋๊ฐํจ์ ๋ณด๊ณ
- ์ด๊ธฐ ๊ณ์ฐ์ ๋จ์์ ํญ ์์ด์ด์์ ํด๋ผ๋ก ํ์ฑ ๋ฌธ์ ์์ธก
- Croshaw ๋ฑ์ AFM ์ฐ๊ตฌ๋ ๋จ์์ ํญ DB ์์ด์ด์ ์ด์จ ๊ธฐ์ ์ํ ํ์ธ
- Altincicek ๋ฑ์ ์ฐ๊ตฌ๋ ์ค๋ฆฌ์ฝ ์ด๋์ฒด ์์ด์ด์ ๊ธธ์ด ์์กด์ฑ ์กฐ์ฌ
- Naydenov ๋ฑ์ 77 K STS ์ฐ๊ตฌ๋ ์ด๋์ฒด ์์ด์ด์ "์์ ์ฐ๋ฌผ" ์ํ ๊ท๋ช
๋ณธ ์ฐ๊ตฌ๊ฐ ์ ํ ์ฐ๊ตฌ ๋๋น ๊ฐ๋ ์ฅ์ :
- ๊ณ ๋ํ ์ค๋ฆฌ์ฝ ์ ๊ทน ๋์ ๊ธ์ ์ ๊ทน ์ฌ์ฉ์ผ๋ก ์ฐ์ ์ํ ์ ๊ณต
- ๋์ผํ ์์น ๋์ผํ ํ ์กฐ๊ฑด์ ์ฒด๊ณ์ ๋น๊ต
- ๋ ํ์ค์ ์ธ Si/Ag ๊ณ๋ฉด ๋ชจ๋ธ
- ๋์ ์์ด์ด ๋ฐ ๊ฒฐํจ ์ ํญ์ฑ์ ์ฒซ ์ฒด๊ณ์ ์ฐ๊ตฌ
- ์ต์ ๊ธฐํํ: ์ด๋์ฒด ๋ฐ ์ด์ค ์ด๋์ฒด ์์ด์ด๊ฐ ๊ฐ์ฅ ์ ๋งํ ์์ ์์ด์ด ํ๋ณด
- ์ ์ก ํน์ฑ: ๋์ ์์ด์ด๋ ๋ค์ค ์ ๋ฅ ์ฑ๋์ ์ ๊ณตํ๋ฉฐ ์ ์ก ๊ณ์๊ฐ ๊ฑฐ์ ์ ํ์ผ๋ก ์ค์ผ์ผ๋ง
- ๊ฒฐํจ ์ ํญ์ฑ: ๊ธด ์์ด์ด์ ๋์ ์์ด์ด๋ ์์ ๊ฒฐํจ์ ๋์ฑ ๊ฒฌ๊ณ ํจ
- ์์ฉ ์ ์ฌ๋ ฅ: ์ด์ฐ ๋ฐด๋๊ฐญ ์ํ๋ ์ ํธ ์ ์ก ๋๋ ๋ง์ถคํ ์์์ ์ผ๋ก ์ฌ์ฉ ๊ฐ๋ฅ
- ๋ด์ง ๊ณผ์ : ์ง๊ณต ์ธ๋ถ ํ๋ฉด ์ค์ผ ๋ฌธ์ ํด๊ฒฐ ํ์
- ๊ฑฐ์์ ์ฐ๊ฒฐ: ๊ฑฐ์ ์ ๊ทน๊ณผ ์์ ํ๋ก์ ์ ๋ขฐํ ์ ์๋ ์ฐ๊ฒฐ ๋ฐฉ์ ๋ถ์กฑ
- ์จ๋ ์ ํ: ํ์ฌ ์ฐ๊ตฌ๋ ์ฃผ๋ก ์ ์จ์์ ์ํ๋จ
- ๊ณ์ฐ ์ ํ: ์ ์ก ๊ณ์ฐ์ ์๋์ ์ผ๋ก ์งง์ ์์ด์ด์๋ง ์ ํ๋จ
- ๋ด์ง ๊ธฐ์ : ์จ์ดํผ ๋ณธ๋ฉ ๋ณดํธ ๋๋ ๋ฏธ์ธ ๊ฐ๊ณต ์ง๊ณต ์ฑ๋ฒ
- ์ ๊ทน ์ฐ๊ฒฐ: ๊ธ์ ์ค๋ฆฌ์ฌ์ด๋ ์ฆ์ฐฉ ๋๋ ๋ํ ์ฃผ์
๋ฆฌ๋
- ๋ค์ค ํ๋ก๋ธ ์ธก์ : ์์ด์ด ์ ์ก ํน์ฑ์ ์ง์ ํ๊ฐ
- ์์ ํตํฉ: ์์ ํ DB ์์์ ์ ์ ๋ฐ ํ
์คํธ
- ์๊ฒฉํ ์คํ ์ค๊ณ: ๋์ผํ ์์น ๋์ผํ ํ ์กฐ๊ฑด์ ๋น๊ต๋ก ์ฒด๊ณ์ ์ค๋ฅ ์ ๊ฑฐ
- ์ด๋ก -์คํ ๊ฒฐํฉ: DFT ๋ฐ NEGF ๊ณ์ฐ์ด ์คํ ๊ด์ฐฐ์ ์ ์ง์
- ์ฒด๊ณ์ ์ฐ๊ตฌ: ๋ค์ํ DB ์์ด์ด ๊ธฐํํ ๊ตฌ์ฑ์ ์ฒซ ์ฒด๊ณ์ ๋น๊ต
- ๋์ ์ค์ฉ ๊ฐ์น: ์์ ํ๋ก ์ค๊ณ์ ๊ตฌ์ฒด์ ์ง์นจ ์ ๊ณต
- ์ฒจ๋จ ๊ธฐ์ : ๋ณต์กํ ๋ฌด๊ฒฐ ์์ ํ๋ก ์ ์ ๋ฅ๋ ฅ ์
์ฆ
- ์์ฉ ์ ํ: ํ์ฌ ์ง๊ณต ์ ์จ ํ๊ฒฝ์๋ง ์ ํ๋จ
- ๊ท๋ชจ ์ ํ: ์ ์ก ๊ณ์ฐ์ด ๊ณ์ฐ ์์์ผ๋ก ์ ํ๋์ด ์์ด์ด ๊ธธ์ด ์ ํ๋จ
- ๊ฒฐํจ ์ ํ: ์์ ๊ฒฐํจ๋ง ๊ณ ๋ คํ๊ณ ๋ค๋ฅธ ์ ํ ๊ฒฐํจ ๋ฏธํฌํจ
- ์ฅ๊ธฐ ์์ ์ฑ: ์ฅ์๊ฐ ์์ ์ฑ ๋ฐ์ดํฐ ๋ถ์กฑ
- ํ๋ฌธ์ ๊ธฐ์ฌ: ์์ ๊ท๋ชจ ์ ์ํ์ ์ค์ํ ๊ธฐ์ด ๋ฐ์ดํฐ ์ ๊ณต
- ๊ธฐ์ ์ง์ : CMOS๋ฅผ ์ด์ํ๋ ์์ ํ๋ก ๊ธฐ์ ๋ฐ์ ์ถ์ง
- ๋ฐฉ๋ฒ๋ก ํ์ : ์์ ์์ด์ด ํน์ฑํ์ ํ์ค ๋ฐฉ๋ฒ ํ๋ฆฝ
- ์์ฉ ์ ๋ง: ์์ ์ปดํจํ
๋ฐ ์ ์ ๋ ฅ ์ ์ํ์ ์๋ก์ด ๊ธธ ๊ฐ์ฒ
- ์์ ์์: ์์์ , ๋จ์ผ ์ ์ ํธ๋์ง์คํฐ ์ ์
- ์ ์ ๋ ฅ ํ๋ก: ์ด์ ์ ๋ ฅ ๋
ผ๋ฆฌ ์์
- ์์ ์ ์ฅ: ๊ณ ๋ฐ๋ ์์ ๊ท๋ชจ ๋ฐ์ดํฐ ์ ์ฅ
- ์ผ์: ์์ ๊ท๋ชจ ์ผ์ ๋ฐ ๊ฒ์ถ๊ธฐ
- Huff, T. et al. Binary atomic silicon logic. Nat. Electron. 1, 636โ643 (2018).
- Achal, R. et al. Lithography for robust and editable atomic-scale silicon devices and memories. Nat. Commun. 9, (2018).
- Engelund, M. et al. Search for a metallic dangling-bond wire on n-doped H-passivated semiconductor surfaces. J. Phys. Chem. C 120, 20303โ20309 (2016).
- Kepenekian, M. et al. Surface-state engineering for interconnects on H-passivated Si(100). Nano Lett. 13, 1192โ1195 (2013).
- Naydenov, B. & Boland, J. J. Engineering the electronic structure of surface dangling bond nanowires of different size and dimensionality. Nanotechnology 24, (2013).
๋ณธ ์ฐ๊ตฌ๋ ํนํ ์์ด์ด ๊ธฐํํ ์ต์ ํ ์ธก๋ฉด์์ ํ๊ธฐ์ ์ธ ์ง์ ์ ์ด๋ฃจ๋ฉฐ ์์ ๊ท๋ชจ ํ๋ก ์ค๊ณ์ ์ค์ํ ์ด๋ก ๋ฐ ์คํ์ ๊ธฐ์ด๋ฅผ ์ ๊ณตํ๋ค. ํ์ฌ ์ค์ฉํ ๊ณผ์ ์ ์ง๋ฉดํด ์์ง๋ง, ํฅํ ์์ ์ ์ํ ๋ฐ์ ์ ๋ฐฉํฅ์ ์ ์ํ๋ค.