Valley Hall effect is fundamental to valleytronics and provides a promising avenue for advancing information technology. While conventional valley Hall effect requires the inversion symmetry breaking, the recently proposed nonlinear valley Hall (NVH) effect removes the symmetry constraint, and broaden material choices. However, existing studies are limited to nonmagnetic materials without spin involvement and rely on external strain to break rotational symmetry. Here, to address these limitations, we design a magnetically controllable NVH effect in centrosymmetric ferromagnets, by the tight-binding model and first-principles calculations. The model calculations demonstrate nonvanishing NVH conductivities can emerge in pristine hexagonal lattice without external strain, with the magnitude, sign, and spin polarization of the conductivities being all dependent on the magnetization orientation. The effect thus generates various spin-polarized valley Hall currents, characterized by distinct combinations of current direction and spin polarization. First-principle results on a ferromagnetic VSi$_2$N$_4$ bilayer confirm considerable NVH conductivities and their dependence on the magnetization. The magnetically controllable NVH effect unlocks the potential of centrosymmetric magnets for valleytronics, and offer opportunities for novel spintronic and valleytronic devices.
- 논문 ID: 2510.13457
- 제목: 중심대칭 강자성체에서의 자기제어 비선형 밸리 홀 효과
- 저자: Ruijing Fang, Jie Zhang, Zhichao Zhou, Xiao Li (난징사범대학교)
- 분류: cond-mat.mes-hall, cond-mat.mtrl-sci
- 발표 시간: 2024년 10월 15일 (arXiv 사전인쇄본)
- 논문 링크: https://arxiv.org/abs/2510.13457
밸리 홀 효과는 밸리트로닉스의 기초로서 정보기술 발전을 위한 유망한 경로를 제공한다. 기존의 밸리 홀 효과는 반전 대칭성 파괴를 요구하는 반면, 최근 제안된 비선형 밸리 홀(NVH) 효과는 대칭성 제약을 제거하여 재료 선택의 폭을 확대했다. 그러나 기존 연구는 자기 특성이 없는 비자성 재료에 국한되어 있으며 회전 대칭성을 파괴하기 위해 외부 변형에 의존한다. 이러한 제한을 해결하기 위해 본 논문은 타이트 바인딩 모델과 제1원리 계산을 통해 중심대칭 강자성체에서 자기제어 NVH 효과를 설계했다. 모델 계산은 외부 변형이 없는 원래의 육각형 격자에서 0이 아닌 NVH 전도도가 나타날 수 있음을 보여주며, 그 크기, 부호 및 스핀 편극은 모두 자기화 방향에 의존한다. 이 효과는 다양한 스핀 편극을 가진 밸리 홀 전류를 생성하며, 서로 다른 전류 방향과 스핀 편극 조합 특성을 갖는다. 강자성 VSi₂N₄ 이중층에 대한 제1원리 계산은 상당한 NVH 전도도와 그 자기화 의존성을 확인했다.
- 기존 밸리 홀 효과의 한계:
- 기존의 선형 밸리 홀 효과는 결정 반전 대칭성 파괴를 요구하며, 이는 많은 중심대칭 재료의 밸리트로닉스 응용을 배제한다.
- 기존 NVH 효과의 제한성:
- 비자성 재료에만 국한되어 스핀 자유도의 참여가 부족함
- 회전 대칭성을 파괴하기 위해 외부 변형에 의존하며, 변형 전달 효율이 낮고 분포가 불균일함
- 정확도와 재현성이 제한됨
- 연구 필요성: 스핀을 효과적으로 도입하고 향상된 제어성을 제공하는 새로운 메커니즘을 개발하여 다중 전자 자유도의 협력적 제어를 실현할 필요가 있다.
본 논문은 기존 NVH 효과 연구에서 스핀 자유도 결핍과 외부 변형 필요성의 결함을 극복하기 위해 강자성 순서를 도입하여 다음을 동시에 실현하는 것을 목표로 한다:
- 시간 반전 대칭성을 파괴하고 스핀 편극 도입
- 스핀-궤도 결합을 통해 결정 회전 대칭성 파괴
- 자기장 제어 가능한 밸리트로닉스 효과 실현
- 자기제어 NVH 효과 제안: 중심대칭 강자성체에서 외부 변형 없이 비선형 밸리 홀 효과를 처음으로 실현
- 이론 모델 구축: 스핀-궤도 결합과 강자성 교환 상호작용을 포함하는 3-궤도 타이트 바인딩 모델 수립
- 다중 조절성 실현: 자기화 방향을 통해 NVH 전도도의 크기, 부호 및 스핀 편극 방향 제어
- 재료 검증: VSi₂N₄ 이중층에서 이론 예측 검증, 상당한 NVH 전도도 확인
- 장치 응용 전망: 밸리 및 스핀 자유도 제어 기반의 새로운 스핀트로닉스 및 밸리트로닉스 장치 설계를 위한 플랫폼 제공
중심대칭 강자성체에서의 비선형 밸리 홀 효과 연구, 여기서:
- 입력: 면내 전기장 E_b, E_c
- 출력: 횡방향 밸리 홀 전류 J^NVH_a = J^v1_a - J^v2_a ∝ E_b E_c
- 제약: 중심대칭성 유지, 자기화 방향을 통한 제어
공간군 P3̄m1을 가진 중심대칭 강자성체 모델 구축, 포함 내용:
- 3개의 d-궤도: d_z², d_xz, d_yz
- 원위치 스핀-궤도 결합
- 조절 가능한 자기화 방향의 강자성 교환 상호작용
베리 연결 편극률(BCP)의 본질적 기여 기반:
χabcNVH=e3∫BZτ(2π)2dkΛabc(k)
여기서:
Λabc(k)=∑nλabcn(k)∂εnk∂f(εnk)
λabcn(k)=vanGbcn(k)−vbnGacn(k)
Gabn(k)=2Re∑m=nεnk−εmkAanm(k)Abmn(k)
Aanm(k)=εmk−εnkiℏ⟨unk∣v^a∣umk⟩
- 대칭성 분석:
- P 대칭성을 이용하여 K± 점 에너지 축퇴 보장
- 면내 자기화 성분을 통해 C₃ 대칭성 파괴
- C₂ₓ 및 Mₓ 대칭성이 0이 아닌 NVH 전도도 성분 결정
- 자기제어 메커니즘:
- 자기화 방향을 방위각 φ 및 기울기각 θ로 매개변수화
- χ^NVH_xyy 및 χ^NVH_yxx는 각각 코사인 및 사인 함수 의존성 준수
- 전도도 크기, 부호 및 스핀 편극의 독립적 제어 실현
- 스핀 편극 특성:
- 서로 다른 자기화 방향이 다양한 스핀 편극 조합 생성
- 스핀 방향 주기는 2π, 전도도 주기는 π
- 스핀이 전류에 평행 및 수직인 다양한 모드 실현 가능
- 타이트 바인딩 계산: MagneticTB 소프트웨어 패키지를 사용하여 모델 구축
- 제1원리 계산: 밀도 함수 이론 기반
- 완니에 함수: Wannier90 소프트웨어 패키지를 사용하여 타이트 바인딩 해밀턴 생성
- 모델 재료: P3̄m1 공간군의 육각형 격자 강자성체
- 실제 재료: AA' 적층 VSi₂N₄ 이중층
- 격자 상수: 2.89 Å
- 단층 두께: 6.87 Å
- 층간 거리: 2.80 Å
- 자기 모멘트: 2 μ_B/단위 셀
- 화학 포텐셜 μ 스캔 범위: 전도대 및 가전대 가장자리 근처
- 자기화 각도: φ ∈ 0, π, θ ∈ -π/2, π/2
- 에너지 윈도우: 작은 밴드갭 영역의 비선형 응답에 중점
- 전도도 특성: χ^NVH_xyy는 쌍극성 피크를 나타내고, χ^NVH_yxx는 Mx 방향 자기화 시 항상 0
- 피크 위치: K± 밸리 전도대 간 작은 밴드갭 에너지에 대응
- 크기: ~1 (e³/ℏ)Å eV⁻¹
- 전도도 크기:
- 전도대: ~10¹ (e³/ℏ)Å eV⁻¹
- 가전대: ~10² (e³/ℏ)Å eV⁻¹
- 기존 연구 초과: 수치가 변형 그래핀 및 CuMnAs 박막의 비선형 홀 전도도를 초과
- 면내 회전: χ^NVH_xyy ~ -cos(2φ), χ^NVH_yxx ~ sin(2φ)
- 면외 기울기: χ^NVH_xyy는 θ=0에 대해 짝 대칭, χ^NVH_yxx는 홀 대칭
- 피크 각도: θ = 11°에서 최대 응답 출현
- 운동량 분해 BCP: Λ_xyy(k)는 K± 밸리 근처에서 가장 두드러짐
- 대칭성 보호: C₂ₓ 대칭성은 Λ_xyy가 q_y=0에 대해 대칭임을 보장
- 밸리 기여: P 및 Mₓ 대칭성은 두 밸리의 기여가 반대 부호임을 보장
자기화 방향 제어를 통해 실현:
- 동일 전류 방향, 반대 스핀 편극
- 반대 전류 방향, 수직 스핀 편극
- 다양한 스핀-전류 조합 모드
- 이론 제안: Das 등과 Zhou 등이 각각 변형 그래핀 및 MoS₂ 이중층에서 NVH 효과 제안
- 대칭성 요구사항: 3중 회전 대칭성 파괴 필요, 하지만 반전 대칭성 제약 없음
- 본 연구 혁신: 처음으로 자성 및 스핀 자유도 도입
- 스핀-밸리 결합: 수백 종의 자성 밸리 재료에서 실현됨
- 밸리 분열 효과: 자기 순서로 인한 밸리 에너지 준위 분열
- 비정상 밸리 홀 효과: 선형 자성 밸리 홀 효과
- 비선형 홀 효과: 시간 반전 대칭성 파괴 시스템에서 연구
- 베리 곡률 쌍극자: 비선형 응답의 미시적 메커니즘
- 실험 관측: 다양한 재료에서 실험 검증 실현
- 원리 검증: 중심대칭 강자성체에서 무변형 NVH 효과 성공적 실현
- 자기제어 특성: 자기화 방향이 전도도 크기, 부호 및 스핀 편극을 효과적으로 제어
- 재료 실현: VSi₂N₄ 이중층이 상당한 NVH 응답 전시
- 장치 잠재력: 스핀-밸리 전자 장치를 위한 새로운 플랫폼 제공
- 대칭성 파괴: 면내 자기화가 C₃ 대칭성을 파괴하여 NVH 효과 활성화
- 스핀-궤도 결합: 작은 밴드갭 생성, 비선형 응답 증강
- 베리 기하학: 베리 연결 편극률이 수송 특성 결정
- 재료 제한: 특정 공간군 및 자기 구조를 가진 재료 필요
- 온도 효과: 유한 온도에서 자기 순서 및 수송에 대한 영향 미고려
- 무질서 효과: 이론 계산은 완벽한 결정 기반, 실제 재료의 결함 영향 미평가
- 재료 탐색: 유사한 특성을 가진 더 많은 자성 밸리 재료 발굴
- 실험 검증: 비국소 저항 측정 등의 수단을 통한 이론 예측 검증
- 장치 설계: 자기제어 NVH 효과 기반 스핀-밸리 전자 장치 개발
- 다층 체계: 더 복잡한 다층 및 이종 구조로 확장
- 이론적 혁신: 처음으로 자성을 NVH 효과에 도입하여 스핀 자유도 참여 실현
- 방법의 완전성: 타이트 바인딩 모델과 제1원리 계산 결합, 이론과 실제 재료 통합
- 명확한 물리 이미지: 대칭성 분석을 통해 NVH 효과의 미시적 메커니즘 심층 이해
- 응용 전망: 밸리트로닉스 및 스핀트로닉스 교차 분야에 새로운 방향 개척
- 무변형 실현: 내재적 자성을 통해 외부 변형의 기술적 어려움 회피
- 다중 제어: 전도도 및 스핀 편극의 여러 차원 동시 제어
- 측정 가능한 수치: 계산된 전도도 수치가 실험적으로 측정 가능
- 재료 검증: 실제 재료에서 이론 예측의 신뢰성 입증
- 재료 범위: 현재 특정 재료 체계에서만 검증, 보편성 확장 필요
- 실험 부재: 순수 이론 연구로 실험 검증 부족
- 환경 요인: 온도, 도핑 등 실제 요인의 충분한 고려 부족
- 장치 실현: 기초 효과에서 실제 장치까지의 경로가 명확하지 않음
- 학술 가치: 비선형 밸리 수송 이론에 중요한 기여, 관련 분야 발전 추진
- 기술 잠재력: 차세대 스핀-밸리 전자 장치를 위한 이론적 기초 제공
- 학제간 의의: 응축 물질 물리학, 재료 과학 및 장치 공학 분야 연결
- 기초 연구: 밸리트로닉스 및 스핀트로닉스의 기초 물리 연구
- 재료 설계: 새로운 자성 밸리 재료의 이론적 설계 지도
- 장치 개발: 저전력, 다기능 전자 장치의 개념 검증
- 정보 기술: 밸리 및 스핀 인코딩 기반의 새로운 정보 처리 방안
본 논문은 밸리트로닉스 기초 이론, 비선형 수송 현상, 자성 재료 및 제1원리 계산 방법 등 다양한 분야를 포괄하는 40편의 중요 참고문헌을 인용하여 연구에 견고한 이론적 기초와 기술적 지원을 제공한다.
본 논문은 이론적으로 중요한 혁신성을 가지며, 중심대칭 자성 재료의 밸리트로닉스 응용을 위한 새로운 경로를 개척했으며, 스핀-밸리 전자학이라는 신흥 교차 분야의 발전을 추진할 것으로 기대된다.