2025-11-21T14:40:15.746352

Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems

Subramanian, Moest, Paarhuis
This paper presents a partial state-feedback reduced-order switching predictive model designed to support the next-generation lithography roadmap. The proposed approach addresses the trade-off between increasing the number of measurements to improve overlay accuracy and the resulting challenges, including higher measurement noise, reduced throughput and overlay/placement errors under uncertain operating conditions.. By minimizing (die-) placement errors and reducing unnecessary measurements, the method enhances system performance and throughput. This solution employs a streamlined model with adaptive switching logic to manage time-varying uncertainties induced by fluctuating operating conditions. The methodology is implemented on a state-of-the-art lithographic scanner to mitigate the spatial-temporal dynamics of reticle heating, serving as a representative industrial application. Reticle heating, which worsens with increased throughput, introduces spatial-temporal distortions that directly degrade die placement accuracy. Experimental results demonstrate significant improvements: placement errors are reduced by a factor of $2-3$x, and throughput is improved by $0.3$seconds per wafer. Importantly, the method accounts for the fact that increased throughput can exacerbate reticle heating, which directly impacts overlay performance. By actively compensating for these thermomechanical effects, the proposed approach ensures that overlay accuracy is maintained or improved -- even under increased throughput conditions -- highlighting its potential for broader application in advanced lithographic systems, particularly in thermal and vibration control.
academic

Частичная обратная связь по состоянию, модели пониженного порядка с переключением для систем оптической литографии следующего поколения

Основная информация

  • ID статьи: 2402.13928
  • Название: Partial State-Feedback Reduced-Order Switching Predictive Models for Next-Generation Optical Lithography Systems
  • Авторы: Raaja Ganapathy Subramanian (Технологический университет Эйндховена и ASML NV), Barry Moest (ASML NV), Bart Paarhuis (ASML NV)
  • Классификация: math.OC (математическая оптимизация и управление)
  • Дата публикации: Препринт, поданный в Control Engineering Practice, 15 октября 2025 г.
  • Ссылка на статью: https://arxiv.org/abs/2402.13928

Аннотация

В данной работе предлагается метод частичной обратной связи по состоянию с использованием моделей пониженного порядка и переключающейся логики для поддержки развития технологии оптической литографии следующего поколения. Метод решает проблему компромисса между увеличением количества измерений для повышения точности наложения и связанными с этим вызовами, включая повышенный шум измерений, снижение производительности и ошибки наложения/размещения в условиях неопределённости. Путём минимизации ошибок размещения кристаллов и сокращения ненужных измерений метод повышает производительность системы и пропускную способность. Решение использует упрощённые модели с адаптивной логикой переключения для управления временными неопределённостями, вызванными колебаниями условий эксплуатации. Метод реализован на современном сканере литографии для смягчения пространственно-временной динамики нагрева маски, что служит репрезентативным промышленным приложением. Нагрев маски ухудшается с увеличением производительности, вводя пространственно-временные искажения, которые непосредственно снижают точность размещения кристаллов. Экспериментальные результаты демонстрируют значительные улучшения: ошибка размещения снижена в 2-3 раза, производительность увеличена на 0,3 секунды на пластину.

Научный контекст и мотивация

Предпосылки проблемы

  1. Значимость технологии оптической литографии: Литография является критически важной технологией в процессе производства полупроводников, определяющей масштаб производства элементов кристаллов и непосредственно влияющей на качество производства интегральных схем.
  2. Технические вызовы:
    • Минимальные размеры элементов от 3 нм до 500 нм требуют точности на уровне субнанометра
    • Противоречие между требованиями высокой производительности и высокой точности
    • Влияние пространственно-временной динамики на производительность системы
  3. Ограничения существующих методов:
    • Несоответствие между предположениями моделирования и поведением реальной системы
    • Чувствительность к неопределённостям и внешним возмущениям
    • Сложность обеспечения глобальной замкнутой устойчивости в реальном времени
    • Компромисс между точностью физического моделирования и простотой модели
    • Ограничения модульности, масштабируемости и стоимости реализации

Научная мотивация

Данная работа направлена на преодоление разрыва между теоретическими концепциями управления и практической реализацией в системах литографии, предлагая метод частичной обратной связи по состоянию с использованием моделей пониженного порядка и переключающегося предсказательного управления при сохранении производительности и точности наложения.

Основные вклады

  1. Проектирование моделей пониженного порядка: Предложено использование линейных стационарных моделей пониженного порядка, полученных из номинальной динамики крупномасштабных систем (модели конечных элементов), с избирательной развязкой критической пространственно-временной динамики для обеспечения вычислительной эффективности без ущерба для точности модели.
  2. Адаптивный механизм переключения: Введена логика переключения для адаптации к неопределённостям, вызванным физическими эффектами, повышающая робастность.
  3. Гарантии устойчивости: Доказано, что предложенная стратегия управления обеспечивает глобальную равномерную конечную ограниченность асимптотической устойчивости (GUAS), поддерживаемую теоремой малого усиления для нелинейных систем.
  4. Промышленная верификация: Реализация и верификация на современной системе литографии с фокусом на смягчение пространственно-временных искажений, вызванных нагревом маски.

Описание методологии

Определение задачи

Входные данные:

  • Состояние системы x∈Rnx \in \mathbb{R}^n (предсказанная полная деформация маски)
  • Внешние входы ue∈Rmu_e \in \mathbb{R}^m (тепловые источники)
  • Данные разреженных датчиков y∈Rqy \in \mathbb{R}^q

Выходные данные:

  • Выход, связанный с ошибкой размещения z∈Rpz \in \mathbb{R}^p

Ограничения:

  1. Предсказанное смещение остаётся ограниченным: ∥z∥≤ε\|z\| \leq \varepsilon (субнанометровый уровень)
  2. Сокращение времени измерения путём избирательного пропуска измерений для некоторых наборов меток

Архитектура модели

Представление в пространстве состояний

Представление системы в пространстве состояний имеет вид:

\dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e + B_f u_f \\ u_f = \Gamma(.)y \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$$ где: - $x_i$: состояние внутренней деформации - $u_e$: внешний профиль нагрева - $u_f$: сигнал обратной связи от датчиков выравнивания - $\Gamma(.)$: функция преобразования разреженных измерений обратной связи в соответствующий плотный макет - $C_i$: отображение выхода от $x_i$ к $u_i$ #### Четырёхэтапный метод проектирования **Этап 1 - Интеграция планировщика и замкнутая обратная связь**: Планировщик $\Phi$ определяется как: $$\Phi = \{M_i | I \in R_i, \forall i \in \mathbb{Z}\}$$ где $I \in \{y, u_e, u_\Delta\}$ представляет набор исторической информации. **Этап 2 - Номинальная модель пониженного порядка**: Использование параметризованного метода редукции на основе моментов Крылова: $$M_i := \begin{cases} \dot{x}_i = A_i x_i + B_i u_e \\ u_i = C_i x_i \end{cases}$$ **Этап 3 - Интеграция частичной обратной связи**: Интеграция частичной обратной связи по состоянию в модель пониженного порядка путём явного введения канала входа обратной связи $B_f$. **Этап 4 - Обработка неопределённости**: Использование центрированного подхода для представления модели в виде: $$\hat{P}(\Phi|I) = M_n + M_\Delta = M_n + \Delta_m(\Phi|I)$$ ### Технические инновации 1. **Стратегия переключения, управляемая исторической информацией**: В отличие от управления с переменным усилением, основанного только на амплитуде сигнала обратной связи, данный метод использует исторические данные $I$ для направления выбора модели. 2. **Сохранение физической интерпретируемости**: Метод моментов Крылова сохраняет исходную физическую интерпретацию модели пониженного порядка. 3. **Структура системы типа Люре**: Преобразование системы в систему типа Люре, объединяющую линейную динамическую часть и нелинейную/неопределённую часть. ## Экспериментальная установка ### Экспериментальная платформа - **Оборудование**: Современный сканер литографии ASML Twinscan - **Сценарий применения**: Смягчение нагрева маски - **Условия тестирования**: 2 партии, по 16 пластин в каждой партии ### Показатели оценки 1. **Ошибка размещения**: Ошибка наложения в направлениях x-y 2. **Увеличение производительности**: Экономия времени на пластину 3. **Устойчивость**: Согласованность производительности при различных условиях эксплуатации ### Методы сравнения 1. **Традиционный метод**: Текущий стандартный метод на основе датчиков 2. **Линейный метод**: Линейная версия, использующая только номинальную модель $M_n$ ### Детали реализации - Использование 3 моментов для описания номинальной и неопределённой моделей нагрева маски - Пропуск краевых меток выравнивания, использование только верхних и нижних меток - Экономия примерно 0,3 секунды на пластину при каждом измерении ## Экспериментальные результаты ### Основные результаты 1. **Улучшение ошибки размещения**: - Ошибка размещения в направлениях x-y снижена в 2-3 раза по сравнению с традиционным методом - Производительность в направлениях x-y улучшена в 2 раза для первых 2 пластин - Сохранение стабильной и улучшенной точности при номинальных и неопределённых условиях 2. **Увеличение производительности**: - Экономия 0,3 секунды на пластину - Возможность увеличения производительности на до 7 пластин в час 3. **Верификация робастности**: - Производительность линейного метода снижается в 3 раза при неопределённых условиях - Предложенный метод сохраняет согласованную производительность при различных областях изображения ### Верификация в различных областях изображения В экспериментах с меньшей областью экспозиции: - Предложенный метод показывает улучшение производительности в 3 раза при номинальных и неопределённых условиях - Производительность линейного метода снижается в 2-3 раза - Подтверждение робастности и адаптивности метода ### Анализ устойчивости Доказана глобальная равномерная конечная ограниченность асимптотической устойчивости (GUAS) с использованием теоремы малого усиления, удовлетворяющая: - Физические характеристики нагрева маски обеспечивают ограниченную динамику - Как номинальная, так и неопределённая модели удовлетворяют условиям устойчивости - Точка равновесия $x^*$ (где $\|z\| = 0$) является GUAS ## Связанные работы ### Управление системами литографии - Традиционные методы линейного предсказательного управления ограничены "эффектом водяной кровати" - Нелинейные методы включают управление с переменным усилением, фильтрацию и переключающиеся контроллеры - Существующие методы часто игнорируют пространственно-временную динамику ### Методы редукции моделей - Сбалансированное усечение, методы подпространства Крылова, разложение по собственным ортогональным модам (POD) - Существующие методы снижают размерность, но теряют физическую интерпретируемость - Предложенный метод сохраняет физическую интерпретацию при достижении вычислительной эффективности ### Управление переключающимися системами - Стратегии переключения на основе исторической информации - Методы управления, управляемые событиями - Теория устойчивости систем типа Люре ## Заключение и обсуждение ### Основные выводы 1. Успешная разработка метода частичной обратной связи по состоянию с использованием моделей пониженного порядка и переключающегося предсказательного управления 2. Достижение одновременного повышения точности и производительности 3. Верификация робастности при неопределённых условиях эксплуатации 4. Предоставление теоретических гарантий устойчивости ### Ограничения 1. Применимость метода зависит от специфических характеристик физической системы 2. Проектирование логики переключения требует специализированных знаний в предметной области 3. Редукция модели может влиять на точность в некоторых экстремальных условиях ### Направления будущих исследований 1. **Унифицированная предсказательная структура**: Расширение на пространственные и временные вариации всей системы 2. **Интеллектуальная оптимизация измерений**: Интеграция предсказания, обучения и интеллектуальных методов для сокращения ненужных измерений 3. **Верификация практических предположений**: Сокращение разрыва между теоретическими концепциями и практическим применением ## Глубокая оценка ### Преимущества 1. **Высокая промышленная релевантность**: Прямое решение практических проблем в производстве полупроводников 2. **Прочная теоретическая база**: Обеспечение строгого анализа устойчивости 3. **Достаточная экспериментальная верификация**: Верификация на реальной промышленной системе 4. **Методологическая инновативность**: Новый подход, объединяющий редукцию моделей, переключающееся управление и частичную обратную связь 5. **Высокая практическая ценность**: Одновременное повышение точности и производительности с прямой экономической ценностью ### Недостатки 1. **Ограничения применимости**: Основной фокус на проблеме нагрева маски, обобщаемость на другие приложения требует проверки 2. **Управление сложностью**: Проектирование и настройка логики переключения может требовать значительных специализированных знаний 3. **Сравнительные эксперименты**: Отсутствие глубокого сравнения с другими передовыми методами управления 4. **Долгосрочная устойчивость**: Недостаточное обсуждение деградации производительности при длительной эксплуатации ### Влияние 1. **Академическая ценность**: Предоставление новой теоретической структуры для управления пространственно-временными системами 2. **Промышленная ценность**: Прямое применение к оборудованию стоимостью в десятки миллиардов долларов в полупроводниковой промышленности 3. **Технологическое распространение**: Возможность расширения метода на другие системы точного производства 4. **Воспроизводимость**: Предоставление четких этапов реализации и теоретической базы ### Сценарии применения 1. **Системы точного производства**: Производственные процессы, требующие точности на уровне субнанометра 2. **Приложения управления теплом**: Системы, связанные с управлением тепловой деформацией 3. **Требования высокой производительности**: Сценарии, требующие повышения эффективности при сохранении точности 4. **Промышленные системы с неопределённостью**: Системы с частыми изменениями условий эксплуатации ## Список литературы Статья цитирует 45 соответствующих источников, охватывающих теорию управления, технологию литографии, редукцию моделей и идентификацию систем, обеспечивая прочную теоретическую базу и технический контекст для исследования. --- **Общая оценка**: Это высококачественная инженерная статья, успешно применившая передовую теорию управления к практической промышленной проблеме, достигнув хорошего баланса между теоретической строгостью и практической ценностью. Вклад статьи заключается не только в технологических инновациях, но и в предоставлении практически реализуемого решения для критически важной отрасли производства полупроводников.