Curvature effects on the regimes of the lateral van der Waals force
Costa, Queiroz, Alves
Recently, it has been shown that, under the action of the lateral van der Waals (vdW) force due to a perfectly conducting corrugated plane, a neutral anisotropic polarizable particle in vacuum can be attracted not only to the nearest corrugation peak but also to a valley or an intermediate point between a peak and a valley, with such behaviors called the peak, valley, and intermediate regimes, respectively. In the present paper, we calculate the vdW interaction between a polarizable particle and a grounded conducting corrugated cylinder, and investigate how the effects of the curvature of the cylinder affect the occurrence of the mentioned regimes.
academic
Эффекты кривизны на режимы боковой силы Ван-дер-Ваальса
Недавние исследования показали, что нейтральные анизотропные поляризуемые частицы в вакууме под действием боковой силы Ван-дер-Ваальса, создаваемой идеально проводящей волнистой плоскостью, могут притягиваться не только к ближайшему гребню волны, но также к впадине или промежуточной точке между гребнем и впадиной. Эти поведения называются соответственно пиковым, долинным и промежуточным режимами. В данной работе вычислено взаимодействие Ван-дер-Ваальса между поляризуемой частицей и заземленным проводящим волнистым цилиндром и исследовано, как эффект кривизны цилиндра влияет на появление указанных режимов.
Сложность боковой силы Ван-дер-Ваальса: Традиционные исследования сосредоточены главным образом на вертикальном взаимодействии частиц с плоскими поверхностями, тогда как исследование боковых сил остается относительно ограниченным. Недавно обнаружено, что под действием волнистой поверхности положение устойчивого равновесия частицы может находиться на гребне, впадине или промежуточной позиции.
Значимость геометрических эффектов: Существующие исследования сосредоточены главным образом на плоской геометрии, однако реальные поверхности в приложениях часто обладают кривизной. Понимание того, как кривизна влияет на боковую силу Ван-дер-Ваальса, имеет важное значение для наноманипуляции и инженерии поверхностей.
Вызовы теоретических расчетов: Необходимо разработать аналитические методы расчета, выходящие за рамки приближения близкодействия (PFA), для точного описания взаимодействия в криволинейной геометрии.
Расширение теоретического метода: Обобщение метода возмущений Clinton и др. на цилиндрическую геометрию с установлением функции Грина для точечного заряда в присутствии заземленного проводящего волнистого цилиндра.
Новые формулы взаимодействия: Вывод аналитических выражений для взаимодействия Ван-дер-Ваальса между поляризуемой частицей и волнистым цилиндром.
Анализ эффектов кривизны: Систематическое исследование влияния кривизны цилиндра на появление пикового, долинного и промежуточного режимов, показывающее, что кривизна в целом подавляет появление долинного и промежуточного режимов.
Обнаружение направленной зависимости: Выявление различных механизмов влияния направления волнистости (вдоль оси z или φ) на эффекты кривизны.
Исследование взаимодействия Ван-дер-Ваальса поляризуемой частицы вблизи заземленного проводящего волнистого цилиндра, с особым акцентом на различные режимы равновесия, создаваемые боковыми силами, и их зависимость от кривизны поверхности.
Для цилиндра радиусом a с поверхностью, описываемой как ρ = a + εh(φ,z), где h(φ,z) — функция волнистости, ε — параметр возмущения. Функция Грина разлагается как:
G(r,r') = G^(0)(r,r') + Σ(n=1 to ∞) ε^n G^(n)(r,r')
Универсальный подавляющий эффект кривизны: Кривизна поверхности в целом подавляет появление долинного и промежуточного режимов, способствуя стабилизации пикового режима.
Направленная зависимость: Направление волнистости определяет конкретное проявление эффектов кривизны:
Волнистость в направлении z: относительно слабые эффекты кривизны
Волнистость в направлении φ: сильная связь между кривизной и структурой волнистости
Эффект масштаба расстояния: При d ≪ a эффекты кривизны исчезают, при d ~ a эффекты кривизны наиболее значительны.
1 E. C. M. Nogueira, L. Queiroz, and D. T. Alves, "Peak, valley, and intermediate regimes in the lateral van der Waals force," Phys. Rev. A 104, 012816 (2021).
2 W. L. Clinton, M. A. Esrick, and W. S. Sacks, "Image potential for nonplanar metal surfaces," Phys. Rev. B 31, 7540 (1985).
3 C. Eberlein and R. Zietal, "Force on a neutral atom near conducting microstructures," Phys. Rev. A 75, 032516 (2007).
Общая оценка: Это высококачественная теоретическая физическая работа, вносящая важный вклад в область пересечения сил Ван-дер-Ваальса и поверхностной науки. Теоретические выводы строги, результаты имеют важное физическое значение и предоставляют новые теоретические инструменты для понимания и контроля поверхностных взаимодействий в наномасштабе.