2025-11-15T18:13:12.061642

Engineering Quantum Wire States for Atom Scale Circuitry

Yuan, Livadaru, Achal et al.
Recent advances in hydrogen lithography on silicon surfaces now enable the fabrication of complex and error-free atom-scale circuitry. The structure of atomic wires, the most basic and common circuit elements, plays a crucial role at this scale, as the exact position of each atom matters. As such, the characterization of atomic wire geometries is critical for identifying the most effective configurations. In this study, we employed low-temperature (4.5 K) scanning tunneling microscopy (STM) and spectroscopy (STS) to systematically fabricate and characterize six planar wire configurations made up of silicon dangling bonds (DBs) on the H-Si(100) surface. Crucially, the characterization was performed at the same location and under identical tip conditions, thereby eliminating artifacts due to the local environment to reveal true electronic differences among the line configurations. By performing dI/dV line spectroscopy on each wire, we reveal their local density of states (LDOS) and demonstrate how small variations in wire geometry affect orbital hybridization and induce the emergence of new electronic states. Complementarily, we deploy density functional theory (DFT) and non-equilibrium Green's functions to compute the LDOS and evaluate transmission coefficients for the most promising wire geometries. Our results indicate that dimer and wider wires exhibit multiple discrete mid-gap electronic states which could be exploited for signal transport or as custom quantum dots. Furthermore, wider wires benefit from additional current pathways and exhibit increased transmission, while also demonstrating enhanced immunity to hydrogen defects.
academic

Инженерия квантовых проволочных состояний для схемотехники атомного масштаба

Основная информация

  • ID статьи: 2507.02123
  • Название: Engineering Quantum Wire States for Atom Scale Circuitry
  • Авторы: Max Yuan, Lucian Livadaru, Roshan Achal, Jason Pitters, Furkan Altincicek, Robert Wolkow
  • Классификация: cond-mat.mtrl-sci cond-mat.mes-hall
  • Год публикации: 2025
  • Ссылка на статью: https://arxiv.org/abs/2507.02123

Аннотация

В данном исследовании используется технология водородного травления для создания сложных и безошибочных электрических схем атомного масштаба на поверхности кремния. Исследовательская группа систематически подготовила и охарактеризовала шесть плоских конфигураций проводников, состоящих из кремниевых оборванных связей (DB), используя низкотемпературную (4,5 K) сканирующую туннельную микроскопию (STM) и спектроскопию сканирующего туннельного микроскопа (STS). Путём характеризации в одном и том же месте с одинаковыми условиями острия были исключены влияния локального окружения, что позволило выявить истинные электронные различия между различными конфигурациями линий. Результаты показывают, что димеры и более широкие проводники демонстрируют множественные дискретные электронные состояния в середине запрещённой зоны, которые могут использоваться для передачи сигналов или в качестве настраиваемых квантовых точек.

Научный контекст и мотивация

Постановка проблемы

  1. Ограничения технологии CMOS: Традиционные приборы CMOS приближаются к физическим пределам, отказ масштабирования плотности мощности ограничивает повышение производительности
  2. Потребность в схемах атомного масштаба: Необходимо разработать полнокремниевые решения, выходящие за рамки CMOS, для реализации более быстрых и низкопотребляющих приборов
  3. Вызовы атомных проводников: Атомные проводники являются базовыми элементами схем, однако на атомном масштабе точное положение каждого атома имеет критическое значение

Научная мотивация

  • Традиционные металлические межсоединения не могут обеспечить атомную точность на атомном масштабе
  • Существующие легированные проводники имеют слишком большое пространственное расширение, что непригодно для плотных атомных схем
  • Требуются высоко пространственно ограниченные проводники, соответствующие входам и выходам атомных схем

Основные вклады

  1. Систематическая геометрическая характеризация: Первая систематическая характеризация шести различных геометрических конфигураций DB-проводников в одном месте с одинаковыми условиями острия
  2. Инженерия электронных состояний: Выявление того, как изменения геометрии проводника влияют на гибридизацию орбиталей и индуцируют появление новых электронных состояний
  3. Расчёт коэффициентов передачи: Расчёт коэффициентов передачи для наиболее перспективных геометрий проводников с использованием DFT и неравновесных функций Грина (NEGF)
  4. Анализ устойчивости к дефектам: Доказательство того, что широкие проводники обладают повышенной устойчивостью к водородным дефектам и множественными каналами тока
  5. Оценка практичности: Предоставление рекомендаций по выбору геометрии проводников для приложений передачи и квантовых точек

Методология

Экспериментальный дизайн

Технология водородного травления (Hydrogen Lithography):

  • Использование сверхострого острия STM для селективного удаления атомов водорода
  • Воздействие электрического тока (1,9-2,3 В, импульсы 50 мс) для обнажения кремниевых оборванных связей
  • Ошибочные DB могут быть удалены с помощью функционализированного водородом острия

Методы характеризации:

  • Измерения STM/STS при низкой температуре 4,5 K
  • Спектроскопия dI/dV для выявления локальной плотности состояний (LDOS)
  • Изображение при постоянной dI/dV для визуализации распределения электронов при определённых энергиях

Теоретические расчёты

Расчёты DFT:

  • Использование программы AMS2024 и функционала обобщённого градиентного приближения (GGA, PBE)
  • Модель конечного размера кремниевого нанокристалла (Si₃₀₈H₂₄₆)
  • Периодическая модель пластины (Si₆₇₂H₂₂₈) для высокоточных расчётов

Расчёты квантового транспорта:

  • Метод NEGF-DFT для расчёта коэффициентов передачи вблизи нулевого смещения
  • Модель кремниевого нанокластера с контактами серебряного электрода
  • Оценка баллистических характеристик передачи и влияния дефектов

Типы геометрии проводников

Исследованы шесть конфигураций проводников:

  1. Одноатомная прямая линия
  2. Зигзагообразный проводник
  3. Димерный проводник
  4. Димерный проводник с зазором 2H
  5. Димер + одноатомный проводник
  6. Двойной димерный проводник

Экспериментальная установка

Подготовка образца

  • Высоколегированный мышьяком n-тип Si(100) с удельным сопротивлением 0,003-0,005 Ω·см
  • Вспышка при 1250°C для удаления оксидного слоя и рекристаллизации
  • Подготовка чистой поверхности H-Si(100) в атмосфере водорода
  • Создание области истощения вблизи поверхности для развязки DB-проводников от полосы доноров

Условия измерения

  • Система Scienta Omicron LT STM, рабочая температура 4,5 K
  • Условия сверхвысокого вакуума: 2,5×10⁻¹¹ Торр
  • Унифицированные установки острия: 1,8 В, 50 пА (на H-Si)
  • Синхронный детектор: 700 Гц, модуляционное напряжение 25 мВ

Протокол характеризации

  • Сбор 100 спектров для каждого проводника, объединённых в 2D-карту LDOS
  • Мониторинг эталонного DB для обеспечения согласованности условий острия
  • Измерения при постоянной высоте ограничены 15 минутами для минимизации дрейфа острия

Экспериментальные результаты

Эталон одиночного DB

  • Значительный пик переноса заряда при -1,50 В
  • Видимая запрещённая зона 2,58 эВ (из-за изгиба полосы, индуцированного острием)
  • Зависимость зарядового состояния от смещения острия: отрицательное состояние (-1,80 В), положительное состояние (-1,30 В)

Сравнение производительности проводников

Тип проводникаHOMO (В)LUMO (В)Запрещённая зона (эВ)Оценка передачи
Одноатомный-1,350,601,91Плохая
Зигзагообразный--2,55Плохая
Димерный-1,500,301,80Хорошая
Димерный с дефектом-1,500,231,73Средняя
Двойной димерный-1,900,151,67Лучшая

Результаты расчётов передачи

Коэффициенты передачи при нулевом смещении:

  • Одиночный димер длины 4: T ≈ 0,67
  • Одиночный димер длины 8: T ≈ 0,71 (баллистическая передача)
  • Двойной димер длины 4: T ≈ 1,48 (почти линейное масштабирование)
  • Двойной димер длины 8: T ≈ 1,32

Устойчивость к дефектам:

  • Проводник длины 4 с дефектом 2H: потеря передачи 82%
  • Проводник длины 8 с дефектом 2H: потеря передачи только 24%

Ключевые находки

  1. Преимущество димеров: π-связанное взаимодействие формирует коллективные состояния мультидимеров, обеспечивая значительную делокализацию
  2. Эффект ширины: Двойные димерные проводники демонстрируют поперечную связь, поддерживающую распространение сигнала через ряды димеров
  3. Механическая стабильность: Широкие проводники снижают динамический изгиб димеров, обеспечивая более чёткие состояния запрещённой зоны
  4. Плотность состояний: Широкие проводники демонстрируют более богатый спектр дискретных уровней энергии в запрещённой зоне

Связанные работы

Теоретические исследования

  • Исследования DFT Englund и др. показывают, что димерные проводники наиболее стабильны и проводящи
  • Kepenekian и др. сообщают об устойчивости зигзагообразных проводников к нестабильности
  • Ранние расчёты предсказывают проблемы с образованием поляронов в одноатомных DB-проводниках

Экспериментальный прогресс

  • Исследования AFM Croshaw и др. подтверждают ионное основное состояние одноатомных DB-проводников
  • Исследования Altincicek и др. зависимости длины кремниевых димерных проводников
  • Исследования STS при 77 K Naydenov и др. выявляют состояния "квантовой ямы" в димерных проводниках

Технические отличия

Преимущества данного исследования по сравнению с предыдущими работами:

  • Использование металлических электродов вместо высоколегированных кремниевых электродов, обеспечивающих непрерывные состояния
  • Систематическое сравнение в одном месте с одинаковыми условиями острия
  • Более реалистичная модель интерфейса Si/Ag
  • Первое систематическое исследование широких проводников и устойчивости к дефектам

Выводы и обсуждение

Основные выводы

  1. Оптимальная геометрия: Димерные и двойные димерные проводники являются наиболее перспективными кандидатами для атомных проводников
  2. Характеристики передачи: Широкие проводники обеспечивают множественные каналы тока с почти линейным масштабированием коэффициента передачи
  3. Устойчивость к дефектам: Длинные и широкие проводники более устойчивы к водородным дефектам
  4. Потенциал применения: Дискретные состояния в середине запрещённой зоны могут использоваться для передачи сигналов или создания настраиваемых квантовых точек

Ограничения

  1. Проблемы герметизации: Необходимо решить проблему загрязнения поверхности вне вакуума
  2. Макроскопические соединения: Отсутствуют надёжные схемы соединения макроскопических электродов с атомными схемами
  3. Температурные ограничения: Текущие исследования проводятся в основном при низких температурах
  4. Вычислительные ограничения: Расчёты передачи ограничены относительно короткими проводниками

Направления будущих исследований

  1. Технология герметизации: Волновая сварка пластин для защиты или микромеханическая вакуумная камера
  2. Соединение электродов: Осаждение металлических силицидов или легированные выводы инжекции
  3. Многозондовые измерения: Прямая оценка характеристик передачи проводников
  4. Интеграция приборов: Подготовка и тестирование полных DB-приборов

Глубокая оценка

Достоинства

  1. Строгий экспериментальный дизайн: Сравнение в одном месте с одинаковыми условиями острия исключает систематические ошибки
  2. Сочетание теории и эксперимента: Расчёты DFT и NEGF хорошо поддерживают экспериментальные наблюдения
  3. Систематическое исследование: Первое систематическое сравнение различных геометрических конфигураций DB-проводников
  4. Высокая практическая ценность: Предоставляет конкретные рекомендации для проектирования атомных схем
  5. Передовая технология: Демонстрирует возможность подготовки сложных безошибочных атомных схем

Недостатки

  1. Ограничения применения: В настоящее время ограничено вакуумной низкотемпературной средой
  2. Ограничения масштаба: Расчёты передачи ограничены вычислительными ресурсами, длина проводников ограничена
  3. Типы дефектов: Рассмотрены только водородные дефекты, другие типы дефектов не изучены
  4. Долгосрочная стабильность: Отсутствуют данные о долгосрочной стабильности

Влияние

  1. Вклад в дисциплину: Предоставляет важные базовые данные для атомной электроники
  2. Технологический прогресс: Способствует развитию технологии атомных схем, выходящей за рамки CMOS
  3. Инновация методов: Устанавливает стандартные методы характеризации атомных проводников
  4. Перспективы применения: Открывает новые возможности для квантовых вычислений и низкопотребляющей электроники

Применимые сценарии

  1. Квантовые приборы: Подготовка квантовых точек, одноэлектронных транзисторов
  2. Низкопотребляющие схемы: Сверхнизкопотребляющие логические приборы
  3. Атомное хранилище: Высокоплотное хранилище данных атомного масштаба
  4. Датчики: Датчики и детекторы атомного масштаба

Библиография

  1. Huff, T. et al. Binary atomic silicon logic. Nat. Electron. 1, 636–643 (2018).
  2. Achal, R. et al. Lithography for robust and editable atomic-scale silicon devices and memories. Nat. Commun. 9, (2018).
  3. Engelund, M. et al. Search for a metallic dangling-bond wire on n-doped H-passivated semiconductor surfaces. J. Phys. Chem. C 120, 20303–20309 (2016).
  4. Kepenekian, M. et al. Surface-state engineering for interconnects on H-passivated Si(100). Nano Lett. 13, 1192–1195 (2013).
  5. Naydenov, B. & Boland, J. J. Engineering the electronic structure of surface dangling bond nanowires of different size and dimensionality. Nanotechnology 24, (2013).

Данное исследование предоставляет важную теоретическую и экспериментальную базу для проектирования атомных схем, особенно в области оптимизации геометрии проводников. Хотя в настоящее время остаются практические вызовы, исследование указывает направление развития будущей атомной электроники.