2025-11-17T22:25:13.445698

Cryogenic temperature dependence and hysteresis of surface-trap-induced gate leakage in GaN high-electron-mobility transistors

Pan, Lin, Chen et al.
This work provides a detailed mapping of various mechanisms of surface-trap-induced gate leakage in GaN HEMTs across a temperature range from room to cryogenic levels. Two-dimensional variable-range hopping is observed at small gate bias. Under higher reverse gate bias, the leakage is dominated by the Poole--Frenkel emission above 220 K, but gradually transitions to the trap-assisted tunneling below 220 K owing to the frozen-trap effect. The trap barrier height extracted from the gate leakage current under the upward gate sweep is 0.65 V, which is 12\% higher than that from the downward sweep. The gate leakage current as a function of the gate bias exhibits clockwise hysteresis loops above 220 K but counterclockwise ones below 220 K. This remarkable opposite hysteresis phenomenon is thoroughly explained by the trap mechanisms.
academic

Криогенная температурная зависимость и гистерезис утечки затвора, индуцированной поверхностными ловушками, в GaN высокоэлектронных транзисторах с высокой подвижностью

Основная информация

  • ID статьи: 2510.14456
  • Название: Криогенная температурная зависимость и гистерезис утечки затвора, индуцированной поверхностными ловушками, в GaN высокоэлектронных транзисторах с высокой подвижностью
  • Авторы: Ching-Yang Pan, Shi-Kai Lin, Yu-An Chen, Pei-hsun Jiang (Национальный педагогический университет Тайваня)
  • Классификация: cond-mat.mes-hall physics.app-ph
  • Дата публикации: 16 октября 2024 г.
  • Ссылка на статью: https://arxiv.org/abs/2510.14456

Аннотация

В данном исследовании детально изучены различные механизмы утечки затвора, индуцированной поверхностными ловушками, в GaN высокоэлектронных транзисторах с высокой подвижностью (HEMT) в диапазоне температур от комнатной до криогенных. При малых напряжениях затвора наблюдается двумерная прыжковая проводимость с переменным расстоянием. При более высоких обратных напряжениях затвора утечка выше 220 K в основном определяется эмиссией Пула-Френкеля, но постепенно переходит к ловушечно-вспомогательному туннелированию ниже 220 K из-за эффекта замораживания ловушек. Высота барьера ловушки, извлеченная из прямого сканирования затвора, составляет 0,65 В, что на 12% выше, чем при обратном сканировании. Зависимость тока утечки затвора от напряжения затвора демонстрирует гистерезис по часовой стрелке выше 220 K и против часовой стрелки ниже 220 K. Это значительное противоположное явление гистерезиса полностью объяснено механизмом ловушек.

Научный контекст и мотивация

  1. Проблемы, требующие решения:
    • Механизмы утечки затвора в GaN HEMT при криогенных температурах недостаточно изучены
    • Утечка затвора, индуцированная поверхностными ловушками, оказывает серьезное влияние на надежность приборов
    • Отсутствуют систематические исследования поведения гистерезиса утечки затвора при криогенных температурах
  2. Значимость проблемы:
    • Растущий спрос на криогенные электронные приборы в аэрокосмической промышленности, квантовых вычислениях и сверхпроводящих системах
    • GaN HEMT демонстрируют превосходные характеристики при низких температурах, но эффекты ловушек ограничивают надежность приборов
    • Утечка затвора снижает напряжение пробоя и увеличивает потребление энергии в выключенном состоянии
  3. Ограничения существующих методов:
    • Предыдущие исследования в основном сосредоточены на температурной зависимости утечки затвора выше комнатной температуры
    • Отсутствуют глубокие исследования утечки затвора при криогенных температурах
    • Недостаточное понимание физических механизмов поведения гистерезиса утечки затвора
  4. Научная мотивация:
    • Обеспечить теоретическую основу для разработки и применения криогенных GaN приборов
    • Выявить физические механизмы утечки затвора в различных температурных диапазонах
    • Установить связь между механизмом ловушек и поведением гистерезиса

Основные вклады

  1. Систематическое изучение различных механизмов утечки затвора в GaN HEMT в диапазоне температур от 300 K до 1,5 K
  2. Обнаружение и объяснение перехода механизма от эмиссии Пула-Френкеля к ловушечно-вспомогательному туннелированию вблизи 220 K
  3. Первое наблюдение явления противоположного направления гистерезиса утечки затвора до и после 220 K
  4. Точное измерение высоты барьера ловушки (0,65 В) и её связь с направлением сканирования
  5. Установление физической модели связи между различными механизмами утечки и поведением гистерезиса

Методология

Структура и изготовление приборов

  • Подложка: 4 мкм толстый буферный слой GaN/AlGaN сверхрешетки на подложке Si(111)
  • Гетероструктура: GaN(200 нм)/Al₀.₂Ga₀.₈N(25 нм) образует канал двумерного электронного газа
  • Электроды: Истоковые и стоковые электроды Ti/Al/Ti/Au, затворные электроды Ni/Au/Ti
  • Пассивирующий слой: 450 нм слой SiO₂
  • Размеры прибора: ширина затвора 100 мкм, длина затвора 3-5 мкм, расстояние исток-затвор 3-5 мкм, расстояние затвор-сток 20-30 мкм

Методы тестирования

  • Температурный диапазон: Систематические измерения от 300 K до 1,5 K
  • Электрическая характеризация: Измерения I-V характеристик, C-V характеристик, подвижности и концентрации носителей
  • Тестирование утечки затвора: Двусторонние сканирования напряжения затвора, тестирование при различных скоростях сканирования
  • Стресс-тестирование: Измерения временной зависимости при фиксированном напряжении затвора

Теоретические модели

  1. Двумерная прыжковая проводимость с переменным расстоянием (2D-VRH): I2DVRH=I0exp[(T0T)1/3]I_{2D-VRH} = I_0 \exp\left[-\left(\frac{T_0}{T}\right)^{1/3}\right]
  2. Эмиссия Пула-Френкеля (PFE): IPFEEexp[qkT(qEπϵϕPFE)]I_{PFE} \propto E \exp\left[\frac{q}{kT}\left(\sqrt{\frac{qE}{\pi\epsilon}} - \phi_{PFE}\right)\right]
  3. Ловушечно-вспомогательное туннелирование (TAT): ITATexp(8π2mq3hϕTAT3/2E)I_{TAT} \propto \exp\left(-\frac{8\pi\sqrt{2m^*q}}{3h}\frac{\phi_{TAT}^{3/2}}{E}\right)

Экспериментальная установка

Параметры приборов

  • Репрезентативный образец: LG = 5 мкм, LSG = 3 мкм, LGD = 30 мкм
  • Концентрация носителей при комнатной температуре: ~9×10¹² см⁻²
  • Подвижность при комнатной температуре: 1108 см²/(В·с)
  • Подвижность при 1,5 K: 2323 см²/(В·с)

Условия измерения

  • Температурный шаг: 25 K выше 200 K, 20 K ниже 200 K
  • Диапазон сканирования напряжения затвора: -10 В до +2 В
  • Скорость сканирования: ±0,05 В за 18-250 мс
  • Время стресс-тестирования: до 90 секунд

Оценочные показатели

  • Зависимость тока утечки затвора IG от напряжения затвора VG
  • Высоты барьеров ловушек φPFE и φTAT
  • Площадь и направление гистерезиса
  • Показатели температурной зависимости

Экспериментальные результаты

Основные результаты

  1. Температурная классификация:
    • Высокотемпературная область (300-220 K): доминирует PFE
    • Среднетемпературная область (200-140 K): переход от PFE к TAT
    • Низкотемпературная область (120-1,5 K): доминирует TAT, температурная зависимость исчезает
  2. Идентификация механизмов утечки:
    • VG > 0,3 В: термоэлектронная эмиссия Шоттки
    • -1 В < VG < 0,3 В: механизм 2D-VRH
    • VG < -4 В: PFE (высокая температура) или TAT (низкая температура)
  3. Высоты барьеров ловушек:
    • Прямое сканирование: φPFE = 0,65 В
    • Обратное сканирование: φPFE = 0,58 В
    • Разница: 12%

Явления гистерезиса

  1. Направление гистерезиса:
    • T > 220 K: гистерезис по часовой стрелке
    • T < 220 K: гистерезис против часовой стрелки
    • T = 220 K: минимальный гистерезис
  2. Зависимость от скорости сканирования:
    • Высокая температура: гистерезис нечувствителен к скорости сканирования
    • Низкая температура: сильная зависимость от скорости сканирования
  3. Временная зависимость:
    • T > 220 K: IG увеличивается со временем
    • T < 220 K: IG уменьшается со временем

Объяснение физических механизмов

  1. Механизм PFE (T > 220 K):
    • Термическое возбуждение электронов из ловушек в зону проводимости
    • Большее количество электронов ловушек обеспечивает больший резервуар носителей
    • Создает гистерезис по часовой стрелке
  2. Механизм TAT (T < 220 K):
    • Эффект замораживания ловушек, туннелирование электронов
    • Увеличение заполнения ловушек подавляет туннельный ток
    • Создает гистерезис против часовой стрелки

Связанные работы

Основные направления исследований

  1. Исследование криогенных характеристик GaN HEMT
  2. Исследование механизмов ловушек в полупроводниковых приборах
  3. Анализ температурной зависимости утечки затвора
  4. Явления гистерезиса в диодах Шоттки

Уникальность данной работы

  • Первое систематическое исследование утечки затвора в GaN HEMT в широком диапазоне температур
  • Обнаружение и объяснение обращения направления гистерезиса в зависимости от температуры
  • Установление четких границ между различными механизмами утечки

Выводы и обсуждение

Основные выводы

  1. Переход механизма: 220 K является критической температурой перехода от PFE к TAT
  2. Обращение гистерезиса: Обращение направления гистерезиса напрямую соответствует изменению механизма утечки
  3. Эффект замораживания ловушек: Замораживание ловушек при низких температурах является фундаментальной причиной механизма TAT и гистерезиса против часовой стрелки
  4. Практическая ценность: Измерение гистерезиса может служить удобным инструментом для идентификации механизма утечки

Ограничения

  1. Ограничения материала: Исследование ограничено приборами, выращенными методом MOCVD с пассивацией SiO₂
  2. Температурный диапазон: Отношение сигнал-шум в некоторых температурных диапазонах ограничивает точный анализ
  3. Теоретическая модель: Неоднородность распределения электрического поля влияет на точное извлечение высоты барьера TAT

Направления будущих исследований

  1. Оптимизация технологии: Исследование влияния различных материалов пассивации и методов выращивания
  2. Совершенствование теории: Разработка более точной модели распределения поверхностного электрического поля
  3. Применение в приборах: Разработка стратегий повышения надежности на основе понимания механизма ловушек

Глубокая оценка

Преимущества

  1. Высокая систематичность: Охватывает широкий температурный диапазон, обеспечивает полную физическую картину
  2. Четкие механизмы: Точная идентификация различных механизмов утечки через подгонку нескольких теоретических моделей
  3. Новизна явлений: Первое обнаружение температурной зависимости обращения направления гистерезиса
  4. Разумное объяснение: Логичное и убедительное объяснение механизмов на основе физики ловушек
  5. Практическая ценность: Важный справочный материал для проектирования криогенных GaN приборов и оценки надежности

Недостатки

  1. Ограничения образцов: Исследование охватывает только одну специфическую структуру прибора и условия технологии
  2. Упрощение модели: Некоторые сложные взаимодействия ловушек могут быть упущены
  3. Количественный анализ: Извлечение некоторых параметров ограничено экспериментальными условиями

Влияние

  1. Научная ценность: Предоставляет новую перспективу и методологию для исследования физики GaN приборов
  2. Перспективы применения: Имеет важное руководящее значение для криогенных приложений, таких как квантовые вычисления
  3. Вклад методологии: Измерение гистерезиса как инструмент идентификации механизма имеет ценность для распространения

Применимые сценарии

  1. Криогенная электроника: Аэрокосмическая промышленность, системы квантовых вычислений
  2. Силовая электроника: Преобразователи высокоэффективной мощности
  3. Радиочастотные приложения: Малошумящие усилители, усилители мощности
  4. Надежность приборов: Анализ отказов и прогнозирование срока службы

Библиография

Статья цитирует 93 связанные работы, охватывающие физику GaN приборов, механизмы ловушек, криогенную электронику и другие важные области, обеспечивая прочную теоретическую основу и справочные материалы для сравнения.


Общая оценка: Это высококачественная экспериментальная физическая статья, которая систематически и глубоко исследует механизмы утечки затвора в GaN HEMT при криогенных температурах, обнаруживает новые физические явления и дает разумное теоретическое объяснение. Результаты исследования имеют важное значение для продвижения применения GaN приборов в экстремальных условиях.